[发明专利]用于制造光电子器件的方法和用于制造光电子器件的设备有效
申请号: | 201380027302.1 | 申请日: | 2013-05-24 |
公开(公告)号: | CN104302407B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | H-C.加尔迈尔;C.尤伦卡;I.施托尔 | 申请(专利权)人: | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01L33/50 | 分类号: | H01L33/50;B05B5/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 杜荔南;胡莉莉 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电子器件 发光物质层 衬底 制造 物质混合物 充电 电势梯度 发光物质 电荷 电势 | ||
1.用于制造光电子器件的方法,该方法具有:
将光电子器件的发光物质层喷溅到衬底(104)上,其中所述发光物质层的物质或物质混合物在喷溅时具有电荷,并且其中经充电的物质或至少部分经充电的物质混合物在喷溅所述发光物质层时具有比衬底(104)的至少一个区域更大的电势,
其中所喷溅的发光物质的发光物质层的厚度借助于衬底(104)上的电势梯度在喷溅所述发光物质层期间被局部地调整;
局部测量喷溅到衬底表面上的发光物质层的厚度;以及
基于所测量的层厚信息,借助射束光学设备局部调整所述经充电的物质或至少部分经充电的物质混合物的量,
所述物质或物质混合物借助于喷嘴被施加到所述衬底上,
所述物质或物质混合物借助于压力从所述喷嘴中喷溅,
其中所述射束光学设备能够对所述物质或物质混合物的喷溅进行成型或定向。
2.根据权利要求1所述的方法,
其中所述光电子器件被构造成发光二极管或激光二极管。
3.根据权利要求1或2所述的方法,
其中被喷溅到衬底(104)上的至少部分经充电的物质混合物具有基质以及嵌入其中的发光物质。
4.根据权利要求3所述的方法,
其中所述物质混合物的基质的物质具有挥发性溶剂或由其构成。
5.根据权利要求4所述的方法,
其中所述挥发性溶剂借助于负压和/或加热所喷溅的层和/或加热衬底(104)而从衬底(104)的表面蒸发和/或逸出。
6.根据权利要求1、2、4和5中任一项所述的方法,
其中经充电的物质或至少部分经充电的物质混合物的电势差借助于电压源(110)来形成,其中第一电极和第二电极与电压源(110)电连接,其中经充电的物质或至少部分经充电的物质混合物的电势差在第一电极与第二电极之间形成。
7.根据权利要求6所述的方法,
其中所述电势差借助于经充电的所喷溅的物质或至少部分经充电的所喷溅的物质混合物和接地的衬底(104)来形成。
8.根据权利要求7所述的方法,
其中经充电的物质或至少部分经充电的物质混合物具有本征电荷。
9.根据权利要求7或8所述的方法,
其中所述物质或所述物质混合物或所述物质混合物的一部分在喷溅到衬底(104)上以前或在喷溅到衬底(104)上时被静电充电。
10.根据权利要求7或8所述的方法,
其中所述电势差借助于衬底保持器(102)和/或衬底(104)的静电充电来形成。
11.用于制造光电子器件的设备(100,200),该设备(100,200)具有:
•用于生成电势差的装置;
•用于保持衬底的衬底保持器;
•用于喷溅经充电的物质或至少部分经充电的物质混合物的装置,其被设立为借助于衬底(104)上的不同电势改变来调整所喷溅的经充电的物质或所喷溅的至少部分经充电的物质混合物的厚度,局部测量喷溅到衬底表面上的发光物质层的厚度,以及基于所测量的层厚信息借助射束光学设备局部调整所述经充电的物质或至少部分经充电的物质混合物的量,
所述用于喷溅物质或物质混合物的装置包括用于生成物质或物质混合物的射束的喷嘴,
所述用于喷溅物质或物质混合物的装置被设立为使得所述物质或物质混合物借助于压力从所述喷嘴中喷溅,
其中所述射束光学设备能够对所述物质或物质混合物的喷溅进行成型或定向。
12.根据权利要求11所述的设备(100,200),
其中被施加到衬底(104)上的至少部分经充电的物质混合物具有基质以及嵌入其中的发光物质。
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