[发明专利]用于制备具有低氧含量的铜电沉积物的添加剂

权利要求书

1.一种用于制备铜电沉积物的铜电镀浴，该铜电镀浴包含：

a)可溶的铜盐；

b)包含一种以上的酸的电解质；以及

c)包含烷基二胺的晶粒细化添加剂；

其中该二胺具有下列结构：

(1)R₁-R₂-N-R₃-N-R₄-R₅，

其中R₁、R₂、R₄和R₅为氢或C₁-C₄烷基，R₃为C₄-C₁₄烷基。

2.根据权利要求1的铜电镀浴，其中该可溶的铜盐是从由硫酸铜、氟硼酸铜及氨基磺酸铜所组成的群组中选出的。

3.根据权利要求2的铜电镀浴，其中该可溶的铜盐包含硫酸铜。

4.根据权利要求1的铜电镀浴，其中该一种以上的酸是从由硫酸、氟硼酸、磷酸、硝酸、氨基磺酸及一种以上前述物质的组合所构成的群组中选出的。

5.根据权利要求4的铜电镀浴，其中该一种以上的酸包含硫酸。

6.根据权利要求1的铜电镀浴，其中该二胺包含4,4-二氨基-2,2-二甲基双环己基甲烷。

7.根据权利要求1的铜电镀浴，其中该二胺在该电镀浴中的浓度为10ppm～10g/L。

8.根据权利要求7的铜电镀浴，其中该二胺在该电镀浴中的浓度为100ppm～1000ppm。

9.根据权利要求1的铜电镀浴，其包含具有一个以上硫原子的光亮剂。

10.根据权利要求9的铜电镀浴，其中该光亮剂包含磺烷基砜化合物。

11.根据权利要求9的铜电镀浴，其中该光亮剂是从由n,n-二甲基-二硫胺甲酸-(3-磺丙基)酯、3-巯基-丙基磺酸-(3-磺丙基)酯、3-巯基-丙基磺酸(钠盐)、具有3-巯基-1-丙烷磺酸(钾盐)的碳酸-二硫基-o-乙基酯-s-酯、双磺丙基二硫醚；3-(苯并噻唑基-s-硫基)丙基磺酸(钠盐)、吡啶丙基磺基甜菜碱、1-钠-3-巯基丙烷-1-磺酸盐、二烷基氨基-硫杂-甲基-硫烷磺酸的过氧化物氧化产物、及一种以上前述物质的组合所构成的群组中选出。

12.根据权利要求9的铜电镀浴，其中该光亮剂以1ppm～40ppm的浓度存在于该电解质中。

13.根据权利要求1的铜电镀浴，其包含整平剂。

14.一种制造铜电铸物的方法，该方法包括以下步骤：

a)从酸性铜电镀浴将铜电沉积到心轴上，其中该酸性铜电镀浴包含：

i)可溶的铜盐；

ii)包含一种以上的酸的电解质；及

iii)包含烷基二胺的晶粒细化添加剂；

其中该二胺具有下列结构：

(1)R₁-R₂-N-R₃-N-R₄-R₅，

其中R₁、R₂、R₄和R₅为氢或C₁-C₄烷基，R₃为C₄-C₁₄烷基；并且

b)从该心轴上分离该电沉积铜。

15.根据权利要求14的方法，其中该可溶的铜盐是从由硫酸铜、氟硼酸铜和氨基磺酸铜所组成的群组中选出。

16.根据权利要求15的方法，其中该可溶的铜盐包含硫酸铜。

17.根据权利要求14的方法，其中该一种以上的酸是从由硫酸、氟硼酸、磷酸、硝酸、氨基磺酸及一种以上前述物质的组合所构成的群组中选出的。

18.根据权利要求17的方法，其中该一种以上的酸包含硫酸。

19.根据权利要求14的方法，其中该二胺包含4,4-二氨基-2,2-二甲基双环己基甲烷。