[发明专利]用于有机电子器件的基板

说明书

技术领域

本发明涉及用于有机电子器件(OED；Organic Electronic Device)的基板和有机电子器件。

背景技术

有机电子器件是一种在电极层与有机材料之间表现出电荷交换功能的器件。有机电子器件包括有机发光器件(OLED)、有机太阳能电池、有机光导体(OPC)，以及有机晶体管。

以有机电子器件为代表的有机发光器件通常依次包括基板、第一电极层、包括发光层的有机层和第二电极层。

在已知的底部发光器件(bottom emitting device)的结构中，所述第一电极层可形成为透明电极层，且所述第二电极层可形成为反射电极层。此外，在已知的顶部发光器件(top emitting device)的结构中，所述第一电极层可形成为反射电极层，且所述第二电极层可形成为透明电极层。

通过两个电极层分别注入的电子(electron)和空穴(hole)在有机层中再结合(recombination)，从而产生光子。所述光子在底部发光器件中可发射至基板侧，或者在顶部发光装置器件可发射至第二电极层侧。

在有机发光器件的结构中，氧化铟锡(ITO)通常用作透明电极层、有机层及通常由玻璃形成的基板，其折射率分别为约2.0、1.8和1.5。在上述折射率关系中，例如，底部发光器件的有机发光层所产生的光子因全内反射(total internal reflection)而在有机层与第一电极层之间的界面处或在基板中被捕获，且只有极少量的光发射出来。

发明内容

技术问题

本发明旨在提供一种用于有机电子器件的基板和一种有机电子器件。

技术方案

本发明一方面提供一种用于有机电子器件的示例性基板，其包括：基底层，和高折射层。本文所用的术语“高折射层”可以是指折射率约为1.8至2.5的层。除另有定义，本文中所用的术语“折射率”可以是指相对于约550或633nm波长的光的折射率。例如，高折射层可在基底层上形成。图1示出示例示例性的基板100，所述基板100包括基底层101和形成于基底层上的高折射层102。例如，所述高折射层可以为一层平整层。本文所用的术语“平整层”指可提供一层可形成有机电子器件的平整表面层。例如，平整层可提供一个最大高度粗糙度(maximum height roughness)为1或0.5μm以下的表面。本文所用的术语“最大高度粗糙度”可以是指通过粗糙度曲线最高点的直线与通过粗糙度曲线最低点的直线之间的距离，且这些直线平行于截断该粗糙度曲线的中心线，例如其可以为一个在平整表面上相对于面积为100μm²的任意区域所测得的数值。

作为基底层，可使用合适的材料而无特别限制。例如，在制造底部发光型有机发光器件时，例如透明基底层可使用对可见光区域的光具有50％以上透光率的基底层。对于透明基底层，可使用玻璃基底层或透明聚合物基底层。对于玻璃基底层，可使用包含钠钙玻璃、含钡/锶的玻璃、铅玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、硼硅酸钡玻璃或石英等的基底层；且对于聚合物基底层，可使用包括聚酰亚胺(PI)、聚萘二酸乙二醇酯(PEN))、聚碳酸酯(PC)、丙烯酸树脂、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚醚硫化物(poly(ether sulfide)，PES)或聚砜(PS)等的基底层，但本发明不限于此。根据需要，基底层可为具有驱动TFT的TFT基板。

例如，在制造顶部发光器件时，基底层可以不采用透明基底层。根据需要，可使用在基底层表面形成有使用铝等而形成反射层的反射基底层。

例如，高折射层可包括粘合剂和颗粒。如上所述，高折射层可为一种平整层，其提供一种可形成包含电极层的有机电子器件的表面。在某些情况中，高折射层可通过与下文中描述的散射层的相互作用表现出极好的光提取效率。例如，高折射层可具有与相邻电极层相同的 折射率，其可为约1.8至2.5，1.85至2.5，1.9至2.2，或2.2至2.5。