[发明专利]分析结构化光模式

权利要求书

1.一种分析结构化光模式的系统，包括：

投影设备；以及

计算设备，包括：

第一检测模块，用于在返回图像中检测目标图像的第一特征，其中，所述返回图像使用根据模式图像制造的模式载玻片而被捕获，

第一指定模块，用于指定所述第一特征的特征类型，包括将第一文字分配给所述第一特征，

第一关联模块，用于使索引与所述第一文字相关联，其中，所述索引与所述模式载玻片相关联，

水平位置模块，用于利用所述索引来计算所述第一特征在所述模式载玻片中的水平位置，

垂直位置模块，用于利用所述索引来计算所述第一特征在所述模式载玻片中的垂直位置，以及

深度计算模块，用于计算所述第一特征的深度。

2.如权利要求1所述的系统，进一步包括：

第二检测模块，用于检测所述目标图像的第二特征；

第二指定模块，用于指定所述第二特征的特征类型，包括将第二文字分配给所述第二特征，以及

第二关联模块，用于使所述索引与所述第二文字相关联。

3.如权利要求2所述的系统，进一步包括用于使所述第一文字和所述第二文字相关联以便形成特征字的字模块。

4.如权利要求3所述的系统，其中，所述水平位置模块用于利用所述索引来分析所述特征字，以便计算所述第一特征在所述模式载玻片中的水平位置。

5.如权利要求3所述的系统，其中，所述特征字是垂直特征字、水平特征字和对角线特征字之一。

6.如权利要求1所述的系统，其中，所述水平位置模块用于利用所述索引来分析多个水平特征字、垂直特征字和对角线特征字，以便计算所述第一特征在所述模式载玻片中的水平位置。

7.如权利要求1所述的系统，其中，所述垂直位置模块用于分析多个水平特征字、垂直特征字和对角线特征字，以便确定所述特征在模式载玻片中的垂直位置。

8.一种分析结构化光模式的方法，包括：

在返回图像中检测目标图像的第一特征，其中，所述返回图像使用根据模式图像制造的模式载玻片而被捕获；

将第一文字分配给目标图像的第一特征；

将第二文字分配给所述目标图像的第二特征；

使索引与所述第一文字和所述第二文字相关联，其中，所述索引与所述模式载玻片相关联；

使所述第一文字和所述第二文字相关联以便形成特征字；以及

利用所述索引来计算所述第一特征在所述模式载玻片中的水平位置，包括利用所述索引来分析所述特征字。

9.如权利要求8所述的方法，其中，所述特征字是垂直特征字、水平特征字和对角线特征字之一。

10.如权利要求9所述的方法，其中，计算所述第一特征在所述模式载玻片中的水平位置包括利用所述索引来分析多个垂直特征字、水平特征字和对角线特征字。

11.如权利要求8所述的方法，进一步包括计算所述第一特征在所述模式载玻片中的垂直位置。

12.如权利要求11所述的方法，其中，计算所述第一特征在所述模式载玻片中的所述垂直位置包括分析多个垂直特征字、水平特征字和对角线特征字。

13.如权利要求8到12中的任意一项所述的方法，进一步包括计算所述第一特征的深度。

14.一种分析结构化光模式的装置，包括：

用于在返回图像中检测目标图像的第一特征的模块，其中，所述返回图像使用根据模式图像制造的模式载玻片而被捕获；

用于将第一文字分配给目标图像的第一特征的模块；

用于将第二文字分配给所述目标图像的第二特征的模块；

用于使索引与所述第一文字和所述第二文字相关联的模块，其中，所述索引与所述模式载玻片相关联；

用于使所述第一文字和所述第二文字相关联以便形成特征字的模块；以及

用于利用所述索引来计算所述第一特征在所述模式载玻片中的水平位置的模块，包括利用所述索引来分析所述特征字。

15.如权利要求14所述的装置，其中，所述特征字是垂直特征字、水平特征字和对角线特征字之一。