[发明专利]有机硅化合物、使用其的薄膜形成用组合物以及有机薄膜

说明书

技术领域

本发明涉及新型有机硅化合物和使用其的薄膜形成用组合物以及有机薄膜。本申请对2012年7月5日申请的日本专利申请第2012-151802号和2012年8月22日申请的日本专利申请第2012-182905号主张优先权，将其内容援引于此。

背景技术

一直以来，在各领域根据目的对由玻璃、金属、塑料，陶瓷等构成的基板的表面进行重整。例如，为了在玻璃、塑料的表面赋予疏水性·疏油性，已知使含有含氟硅烷系偶联剂等有机金属化合物、有机金属化合物的水解物的溶液与基材表面接触来形成有机薄膜。

作为有机薄膜形成用的有机金属化合物，例如已知以下的有机金属化合物。

(1)F(CF₂)_m(CH₂)_nSiR_qX_3-q(式中，m＝1～15，n＝0～15，m+n＝10～30，R表示烷基。)，以及F(CF₂)_m(CH₂)_nA(CH₂)_pSi(CH₃)_qX_3-q(式中，m＝1～8，n＝0～2，p＝5～25，q＝0～2的各整数，A表示氧原子(-O-)，羧基(-COO-)或者二甲基亚甲硅基(-Si(CH₂)₂-)。)(专利文献1)

由(2)R¹_nMX_m-n表示的金属系表面活性剂(专利文献2)

(式中，R¹表示可以具有取代基的烃基、可以具有取代基的卤代烃基、含有连接基团的烃基或者含有连接基团的卤代烃基，M表示选自硅原子、锗原子、锡原子、钛原子以及锆原子中的至少1种金属原子，X表示羟基或者水解性基团，n表示1～(m-1)中的任一整数，m表示M的原子价，n为2以上时，R¹可以相同或者不同，(m-n)为2以上时，X可以相同，也可以不同。其中，(m-n)个的X中至少一个X为水解性基团。)

(3)由下式表示的硅烷衍生物(专利文献3)

(式中，n表示1～20的整数，R¹表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的氟烷基、可以具有取代基的苯基或者可以具有取代基的苄基，R²表示邻位具有硝基的芳香族基团，X¹～X³各自独立地表示卤素原子或者碳原子数1～5的烷氧基。)