[发明专利]调制装置和电源配置

说明书

技术领域

本发明大体上涉及光刻系统，且更明确地说，本发明涉及带电粒子细射束调制装置以及用于细射束调制装置的电源系统。

背景技术

带电粒子光刻系统在本领域中是已知的，举例来说，可从以本案申请人所有的美国专利第6,958,804号中得知。此光刻系统使用多个电子细射束(electron beamlet)将图案转印至目标表面。图案数据被发送至调制装置，该调制装置亦称为细射束阻断器阵列。在此，例如通过对这些细射束进行静电偏转用以接通或切断选定的细射束，来调制这些细射束。这些经过调制的细射束被投射到要被曝光的目标的表面上。为了能将图案高速转印至目标表面，可能会使用光学传送方式将控制数据传送至该调制装置。

为制造能够以非常高的生产量实施具有较小临界图案尺寸的曝光的光刻系统，已经有人提出具有非常大量的带电粒子细射束的带电粒子系统。适用于较小临界尺寸的带电粒子系统中的射束数量大小可能为数万道、数十万道、或是数百万道。

为达到光刻目的，进行最终投射的区域通常会限制到单个场，以及在细射束维持基本上平行的带电粒子系统中，这会造成该调制装置的区域被限制到约27x27mm。调制装置的电力需求相当大，而且在调制装置中流动的电流会产生磁场。在这样的小区域中，这些磁场的效应会变得非常明显。调制装置的区域中的任何磁场会施加一偏转作用力在通过该装置的电子细射束上，而且即使细射束非常小的偏转仍可能在该目标上造成写入误差。

发明内容

所以，本发明的目的是降低因为在细射束调制装置中流动的电流而造成的不希望的磁场的效应。据此，本发明涉及一种调制装置并且涉及一种带电粒子光刻系统，而且涉及一种电源配置。

在第一方面，本发明涉及一种使用在带电粒子光刻系统(100)中的调制装置，该带电粒子光刻系统(100)适于产生带电粒子细射束(123)。该调制装置被配置成用以根据图案数据来调制该等带电粒子细射束并且包括：i)板状主体(106)；ii)由多个细射束偏转器(30)组成的阵列，所述细射束偏转器设置在所述板状主体(106)上，用于偏转所述细射束；iii)多个电源终端(202至205)，用于供应至少两个不同的电压；iv)多个控制电路(40、41)，设置在所述板状主体(106)上，以接收所述图案数据和供应对应的控制信号给所述细射束偏转器(30)，其中，所述控制电路(40、41)由所述多个电源终端(202至205)来馈电；以及v)导电板条(201)，被配置成为所述电源终端(202至205供电。再者，该调制装置的主体被分成狭长的射束区(51)以及被定位在该射束区(51)旁边的狭长的非射束区(52)，使得该射束区(51)的一长边邻接一相邻非射束区(52)的一长边。这些细射束偏转器设置在射束区(51)中。控制电路(40、41)被放置在非射束区(52)中，用于提供控制信号给细射束偏转器(30)。导电板条(201)被连接至非射束区(52)中的控制电路(40、41)，该导电板条(201)包括多个薄的导电平板(202至205)，其中，导电板条(201)形成电源配置的一部分。设置在该板状主体“上”的多个细射束偏转器和控制电路并不意味着它们必须完全仅设置在板状主体的表面上。偏转器和控制电路的一部分，或是全部，也可能设置在板状主体中。

电源配置提供了相对短的电源线路至控制电路和细射束偏转器。包括多个薄的导电平板(优选的是，每个平板连接至不同的电源终端，但是并非必要)的导电板条可能沿着该板条长度的全部或是大部分被连接至调制装置的控制电路，使得将电源连接至控制电路和细射束偏转器的导电线路会在基本上垂直于导电板条板面的方向中延伸，以便最小化它们的长度。结果，由这些互联线路所生成的磁场能够被最小化。降低磁场是通过该导电板条的特定结构实现的，该导电板条是由几个平行布置的薄的导电平板所组成的。