[发明专利]基胎的制造方法和基胎有效

专利信息
申请号: 201380038495.0 申请日: 2013-06-25
公开(公告)号: CN104540665B 公开(公告)日: 2017-10-31
发明(设计)人: 川越健次 申请(专利权)人: 株式会社普利司通
主分类号: B29D30/54 分类号: B29D30/54
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 代理人: 刘新宇,张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种用作轮胎的基部的基胎的制造方法,更具体地,涉及一种在随后的步骤中配设胎面橡胶的基胎的制造方法和通过该方法制造的基胎。

背景技术

在一种已知的轮胎的制造方法中,用作轮胎基部的新制造的基胎和胎面橡胶单独硫化成型。于是,带状或环状的硫化成型胎面橡胶被贴附到在基胎的外周面上设置的粘合层,该粘合层是胎面橡胶用的贴附面。于是,基胎和胎面橡胶被硫化成为一体的产品轮胎。基胎的供胎面橡胶贴附的外周面在硫化成型作业中形成为平滑的弯曲面。然而,按照这种方法,一旦外周面被抛光而使胎面橡胶用的贴附面形成为预定形状,则在设定用于将胎面橡胶粘合到贴附面的粘合层后将胎面橡胶配设到贴附面。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平08-230072号公报

专利文献2:日本特开2010-173139号公报

专利文献3:日本特开2011-025853号公报

发明内容

发明要解决的问题

硫化成型的基胎的外周面被抛光以将贴附面形成预定形状。然而,在抛光前外周面橡胶层必须存在适当的抛光余量,以确保抛光后贴附面和带束层之间残留适当的厚度。因此,以往,通过使轮胎的带束层中位于径向最外位置的最外带束起的径向上的橡胶层充分厚来设置抛光余量。接着调整抛光后贴附面的形状和厚度。因此,当前还没有发现抛光余量的最优条件。例如,如果使橡胶层太厚,则在抛光时则将较容易地调整贴附面的形状和厚度,但是将不能实现最优硫化或降低材料成本。另一方面,如果橡胶层太薄,将限制抛光时贴附面的形状。此外,将难以确保抛光后橡胶层的适当厚度,将不能使贴附面获得预定形状。

因而,本发明的目标在于提供一种通过以如下方式设定的橡胶层的厚度而使橡胶层具有适当厚度的基胎:使得硫化成型基胎的抛光余量最优化而不限定抛光后贴附面的形状。

用于解决问题的方案

为了解决上述问题,本发明提出一种基胎的制造方法,所述基胎具有带束层、位于该带束层的端部的径向内侧的胎体、设置在该带束层的上部的用于配设胎面且具有预定宽度的胎面基部、用于覆盖所述胎体的与所述基胎的各侧面对应的部分的侧部橡胶、位于该胎面基部的宽度方向两侧的位置且沿着所述侧部橡胶的径向上端与所述侧部橡胶接合而覆盖所述胎面基部的侧面的端部橡胶构件、设置于该带束层的各宽度方向端部且配置在所述带束层和所述胎体之间的带束下缓冲橡胶层和通过绕着该带束层的端部卷绕而粘附到所述带束层的径向外表面的带束间缓冲橡胶层,并且所述端部橡胶构件与所述侧部橡胶由彼此组分不同的橡胶材料制成,所述方法包括:通过以下方式抛光所述基胎:将所述胎面基部的损耗角正切tanδ设定为比所述端部橡胶构件、所述带束下缓冲橡胶层和所述带束间缓冲橡胶层的损耗角正切tanδ都低,将该胎面基部的赤道部处的抛光前厚度A1设定为抛光后厚度A2×150%或更少,并且将抛光后厚度A2设定在1mm至3.5mm的范围,并且使得在抛光后的轮胎的宽度方向的截面图中所述胎面基部的表面形状具有曲率半径在至少500mm至2500mm的范围的一个或多个圆弧,所述一个或多个圆弧的中心设定在所述基胎的赤道面上的轮胎转动中心轴侧,当所述胎面基部的表面形状由具有单一曲率半径的圆弧形成时该圆弧的中央设定在所述基胎的赤道面上并且该圆弧在基胎的宽度方向上延伸;当所述胎面基部的表面形状由不同曲率半径的多个圆弧形成时所述胎面基部的表面形状的中央部由该多个圆弧中的曲率半径最大的圆弧、在胎面宽度的50%至70%的范围形成,该曲率半径最大的圆弧的两端的外侧部分均由较小的曲率半径的圆弧连续地形成。因而,最外橡胶层的抛光前厚度A1比传统的普通厚度薄,使得能够缩短硫化成型基胎的过程中的硫化时间。此外,能够减小基胎的硫化成型后形成胎面贴附面的抛光量,使得能够缩短抛光所需要的时间。此外,如此减少的抛光量能够降低抛光步骤中产生的抛光灰尘的量,由此降低了材料的浪费。

损耗角正切tanδ是滚动性能(滚动阻力)的指标。认为该值越低,滚动性能越好。然而,较低的损耗角正切tanδ通常可能导致耐外伤性较低。对于这点,本发明通过将最外橡胶层的损耗角正切tanδ设定为比能够与路面接触的端部橡胶构件的损耗角正切tanδ低而同时满足滚动性能和耐外伤性。

附图说明

图1是示出基胎的结构的截面图。

图2是基胎的放大截面图。

图3是示出传统基胎与本发明的基胎的比较结果的数据的表。

图4是示出在抛光本发明的基胎前后厚度的优选设定的验证结果的表。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社普利司通,未经株式会社普利司通许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380038495.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top