[发明专利]研磨材料再生方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种研磨材料再生方法。

背景技术

作为在玻璃光学元件、玻璃基板、半导体设备的制造工序中进行精密研磨的研磨材料，目前使用以氧化铈为主成分，并向其中加入氧化镧，氧化钕，氧化镨等而形成的稀土元素氧化物。作为其他的研磨材料，可以列举金刚石、氧化铁、氧化铝、氧化锆、胶体二氧化硅等。

通常，在研磨材料的主要构成元素中，包含由日本国内不出产的矿物得到的材料，一部分依赖进口资源，且大多材料价格昂贵。因此，对于含有使用过的研磨材料的研磨材料废液，需要在技术上对应资源的再利用化。

通常，作为在各种产业领域中产生的含有悬浮微粒的废水的处理方法，目前如下处理：使用中和剂、无机凝聚剂或高分子凝聚剂等将悬浮微粒凝聚分离，然后排放处理水，凝聚分离得到的污泥通过焚烧等方法进行废弃处理。

另外，含使用过的研磨材料的废液中混入了在研磨工序中大量产生的被研磨成分，例如光学玻璃屑等。通常难以将该废液中所含的研磨材料成分和被研磨成分有效地分离，因此，现状是，研磨材料废液大多情况下在使用过后被废弃，在废弃成本方面存在问题。

因此，近年来，高效地回收及再利用研磨材料的主要构成元素来实现稀有且价值高的元素的资源节约化成为重要的问题。

关于研磨材料成分的回收方法，已经公开了回收胶体二氧化硅类的研磨材料的方法，即，在镁离子的存在下，向研磨材料废液中添加碱将pH值调整到10以上，由此进行凝聚处理来回收研磨材料的方法(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-254659号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

专利文献1的方法中，当使用主成分为氧化铈的研磨材料，以主成分为硅的玻璃等作为研磨对象时，如果在包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料的pH为10以上的条件下添加氯化镁等添加剂，则研磨材料成分与玻璃成分共同凝聚，导致得到的再生研磨材料的纯度降低。

其原因是，在pH超过10的范围下，被研磨物即玻璃成分的凝聚性提高，加入添加剂时，其比研磨材料成分更容易凝聚。

本发明要解决的技术问题在于，提供一种研磨材料再生方法，其可以从包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料中得到高纯度的再生研磨材料。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的所述技术问题可通过下述方案来解决：

1、一种研磨材料再生方法，其从包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料中再生研磨材料，该使用过的研磨材料是对主成分为硅的被研磨物进行研磨而得到的，该研磨材料是选自下述研磨材料组中的至少一种，并且，该方法经由下述工序A～D再生研磨材料，

工序A：回收包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料的浆料回收工序A；

工序B：调整该回收得到的研磨材料浆料的pH使得其在换算成25℃下的pH为7～10的pH调整工序B；

工序C：向该调整过pH的研磨材料浆料中添加作为无机盐的含碱土金属元素的金属盐，使研磨材料凝聚，从母液中分离出该研磨材料并进行浓缩的分离浓缩工序C；

工序D：对该分离并浓缩后的研磨材料进行固液分离并且回收的研磨材料回收工序D，

研磨材料组：氧化铈、金刚石、氮化硼、碳化硅、氧化铝、氧化铝-氧化锆、氧化锆。

2、第二项的发明涉及第一项所述的研磨材料再生方法，其中，所述pH调整工序B中，调整该回收得到的研磨材料浆料的pH使得其在换算成25℃下的pH为7.8～9.5。

3、第三项的发明涉及第一项或第二项所述的研磨材料再生方法，其中，所述分离浓缩工序C中使用的含碱土金属元素的金属盐为镁盐。

4、第四项的发明涉及第一项至第三项中任意一项所述的研磨材料再生方法，其中，所述研磨材料回收工序D中，研磨材料的回收方法是采用自然沉降进行的倾析分离法。

5、第五项的发明涉及第一项至第四项中任意一项所述的研磨材料再生方法，其中，在所述研磨材料回收工序D之后，还包括工序E：对所述回收得到的研磨材料的粒径进行调整的粒径控制工序E。

发明效果

利用本发明的上述方法，可以从包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料中得到高纯度的再生研磨材料。

附图说明

图1是表示本发明的研磨材料再生方法基本工序流程的一个例子的示意图。

具体实施方式