[发明专利]视网膜光治疗的系统及方法

权利要求书

1.一种用于进行视网膜光治疗的辐射束系统，包括：

雷射主控台，以产生复数个辐射束，其中，各个辐射束包括预定波长、功率及工作周期；

光学透镜或遮罩，使该辐射束通过，以光学性塑形该辐射束；以及

共轴的宽场非接触式数位光学检视相机，以投射该辐射束到至少一部份的视网膜；

其中，该工作周期是低于10％；投射到该至少一部份的视网膜的雷射点直径低于3mm；工作周期的功率介于每平方公分100瓦到590瓦之间；该功率会产生介于最大容许曝光量的18倍至55倍之间的视网膜雷射曝光，且产生7℃-14℃的视网膜色素上皮细胞温度升高。

2.如权利要求1所述的系统，其中，该辐射束通过该光学透镜或遮罩或以该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机投射之前是耦合成单一输出辐射束，且其中，该通过及投射是使用该单一输出辐射束而进行。

3.如权利要求2所述的系统，其中，自该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机投射的该单一输出辐射束是根据对位移图案的配置来操纵,使该复数个辐射束的经选择的波长的辐射束达到完全的视网膜覆盖。

4.如权利要求3所述的系统，其中，自该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机投射的该单一输出辐射束是根据该位移图案来操纵，进而使该复数个辐射束的未经选择的波长的辐射束达到不完全或重迭的视网膜覆盖。

5.如权利要求1所述的系统，其中，来自该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机的每一该辐射束是依序地投射到至少一部份的视网膜。

6.如权利要求5所述的系统，其中，自该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机投射的该辐射束是根据对位移图案的配置来操纵每一该辐射束,使各个波长的每一该辐射束达到完全的视网膜覆盖。

7.如权利要求6所述的系统，其中，自该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机投射的每一该辐射束是根据该位移图案来操纵每一该辐射束，进而使各个波长的辐射束造成相同的视网膜覆盖且排除透过多重辐射束的视网膜同步治疗。

8.如权利要求1所述的系统，其中，该光学透镜或遮罩为复数个，且使每一该辐射束个别地通过对各个辐射束为分开的光学透镜或遮罩。

9.如权利要求8所述的系统，其中，该分开的光学透镜或遮罩是配置成根据波长来光学性塑形各个辐射束，使各个辐射束产生于单一预定图案。

10.如权利要求8所述的系统，其中，该经光学性塑形的辐射束是结合为具有单一预定图案的多重波长的单一辐射束。

11.如权利要求10所述的系统，其中，自该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机投射的该多重波长的单一辐射束是根据对位移图案的配置来操纵,以对于该单一预定图案达到完全的视网膜覆盖。

12.如权利要求1所述的系统，包含可变光圈上经调整的光阑，以阻断来自视网膜的外部周边部份的辐射束，其中，该辐射束是传送到视网膜的内部中央部份。

13.如权利要求1所述的系统，包含液晶显示阵列，配置于栅光圈上，进而阻断来自视网膜的一或多个选择性栅部份的辐射束并传送该辐射束到任意该视网膜的未阻断部分。

14.如权利要求1所述的系统，其中，该辐射束是经选择性阻断，进而减弱峰值功率的区域，或进而预防视网膜上的伤痕组织治疗。

15.如权利要求1所述的系统，其中，该辐射束是经选择性传送到视网膜上的疾病标记。

16.如权利要求1所述的系统，其中，自该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机投射的该辐射束是投射到至少一部份的中央窝。

17.如权利要求1所述的系统，进一步包括显示有平行于或迭加于来自视网膜诊断模式的结果影像的视网膜的基底影像。

18.如权利要求1所述的系统，进一步包括于自该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机投射该辐射束之前、期间及/或之后，建档的视网膜的基底影像；以及记录的治疗参数，包含图解注释的施用治疗或排除治疗的区域。

19.如权利要求1所述的系统，其中，该光学透镜或遮罩包含绕射光学以产生复数个来自该辐射束的点，以及其中，该复数个点是自该共轴的宽场非接触式数位光学检视相机投射到至少一部份的视网膜。