[发明专利]显像液的处理装置和处理方法有效

专利信息
申请号: 201380041273.4 申请日: 2013-07-02
公开(公告)号: CN104508562B 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 堀内健;近藤笃司 申请(专利权)人: 东丽株式会社
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30;B01D19/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李志强;杨思捷
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 显像 处理 装置 方法
【说明书】:

本发明的目的在于,提供:消除与产生浮渣伴随的问题,非常有助于改善产品不良率、提高制备装置的运行率或通过高效率地回收贵金属来降低制备成本等的显像液的处理装置和处理方法。本发明提供显像液的处理装置,其中,所述装置具备:通过离心将显像处理后的显像液分离为澄清液和残渣的离心机,和将上述澄清液脱泡并排出的脱泡装置。

技术领域

本发明涉及显像液的处理装置和处理方法。

背景技术

图案指基板上的特定材料的形状,例如,对于等离子体显示屏,不仅着眼于它的背面板,而且电极、间隔壁和荧光体各自具有复杂的图案。在这样的图案中,导电图案指基板上的导电材料的形状,作为形成该导电性图案的材料,已知含有导电性填充剂的非煅烧型感光性导电糊剂。非煅烧型感光性导电糊剂的导电性填充剂彼此通过较低温的固化工序中的固化收缩而相互接触,从而展现导电性,由于也可在耐热性差的薄膜基板等上形成导电图案,所以进行了面向智能电话和电子黑板的触摸面板的细距配线的开发(专利文献1~5)。

使用感光性导电糊剂的导电图案形成方法是这样的方法:通过隔着具有所希望的图案的光掩模对由感光性导电糊剂形成的涂膜等照射光进行曝光,以产生显像液中的溶解度差,使溶解成分在显像液中洗脱而形成图案。这样,使用感光性导电糊剂的导电图案形成方法必须具备使用显像液的显像处理工序。

在显像处理后的显像液中,不溶性的无机成分和有机成分的块作为不溶成分残留。这些不溶成分(即残渣)例如在等离子体显示屏背面板的间隔壁图案形成过程等中大量产生。为了再利用显像处理后的显像液以再次用于显像处理,需要从显像处理后的显像液中除去残渣,以防止被显像物的污染、显像处理工序装置的堵塞等。另一方面,由于例如用于形成电极图案的感光性导电糊剂含有银等贵金属,所以从显像处理后的显像液中分离残渣还具有作为资源回收的意义。

作为用于从显像处理后的显像液分离残渣的方法,已知使用过滤器或沉淀槽的方法,但具有过滤器的更换频率高或更换过滤器时需要装置停止、或者需要用于降低流速的大容量的沉淀槽等各种问题。因此,作为代替这些方法的方法,开发了离心法(专利文献5和6)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开昭59-143149号公报

专利文献2:日本特开平5-75273号公报

专利文献3:日本特许第4034555号公报

专利文献4:日本特许第4319625号公报

专利文献5:日本特许第3191772号公报

专利文献6:日本特开2005-292189号公报。

发明内容

发明所要解决的课题

但是,就通过离心法分离残渣而言,虽然可有效地回收银等高比重(约为10)的无机成分,但低比重的有机物等不溶成分的除去效率低;另外,由于将大量的空气引入显像液中,所以它们混入离心后的显像液中凝集,产生作为悬浮物的浮渣。这样的浮渣在使用非煅烧型感光性导电糊剂的导电图案形成方法中特别容易产生,伴有由浮渣导致的管道堵塞、各种传感器的错误工作或显像处理后的导电图案的缺陷等诸多问题乃是实情。

因此,本发明的目的在于,提供:消除与产生浮渣伴随的问题,非常有助于改善产品不良率、提高制备装置的运行率或通过高效率地回收贵金属来降低制备成本等的显像液的处理装置和处理方法。

解决课题的手段

因此,本发明人在不考虑除去产生的浮渣而首先考虑抑制浮渣的产生的同时进行了深入研究,结果发现,显像处理后的显像液的脱泡与一定条件下的流动的组合对抑制浮渣的产生极其有效,从而完成本发明。

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