[发明专利]驱动系统和驱动方法、以及曝光装置和曝光方法有效

专利信息
申请号: 201380042747.7 申请日: 2013-07-09
公开(公告)号: CN104541208B 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 坂田晃一;浅海博圭 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G05D3/12;H01L21/027;H01L21/68
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李洋;杨林森
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 第二测量 高通滤波器 驱动系统 合成 操作量 合成量 控制量 反馈控制系统 低通滤波器 平板工作台 驱动 谐振 传递函数 控制对象 曝光装置 设置位置 高频带 偏移 追加 曝光 赋予
【说明书】:

通过使用与第一以及第二测量器的测量结果(X2、X1)对应的增益(或者传递函数)(α、β)求出合成量(Xc=αX2+βX1),并分别经由高通滤波器(F1)和低通滤波器(F2)合成该合成量(Xc)和第一以及第二测量器的一方的测量结果(X2、X1),从而求出合成控制量(Xmix=F1(Xc)+F2(X2、X1))。构成使用合成控制量(Xmix)和目标值(R)求出操作量(U),并将该操作量(U)赋予控制对象的反馈控制系统。由此,不需要追加用于除去第一以及第二测量器的设置位置的偏移的高通滤波器,能够与谐振出现的频带无关地设计在高频带强健的控制平板工作台(PST)的驱动的驱动系统。

技术领域

本发明涉及驱动系统和驱动方法、以及曝光装置和曝光方法,特别是涉及赋予操作量来驱动控制对象的驱动系统和驱动方法、以及具备上述驱动系统的曝光装置和利用上述驱动方法的曝光方法。

背景技术

在制造液晶显示元件、半导体元件等电子器件(微型器件)的光刻工序中,主要使用步进重复式投影曝光装置(所谓的光刻机(stepper)),步进扫描式投影曝光装置(所谓的扫描光刻机(也称为扫描仪))等。对于液晶显示元件用的曝光装置(液晶曝光装置),随着基板的大型化,扫描仪等扫描式投影曝光装置成为主流。

电子器件(微型器件)通过在基板(玻璃平板、晶片等)上重叠形成多层的图案来制造。因此,曝光装置要求使掩膜的图案与在基板上的各拍摄区域上已经形成的图案正确地重叠并进行转印,即、要求较高的重叠精度。

为了实现较高的重叠精度,需要保持基板并移动的基板工作台的精密且稳定的控制技术。这里,近年,作为基板工作台,主要采用具备扫描曝光时向基板的扫描方向移动的滑架、和支承在该滑架上并保持基板向非扫描方向移动的基板台的龙门工作台。在龙门工作台等中,产生成为基板工作台的精密且稳定的控制的障碍重要因素的谐振。特别是近年,随着基板工作台的大型化,有其谐振频率较低的趋势。

作为用于使用陷波滤波器构建相对于在包含这样的基板工作台的谐振频带的高频带并且谐振频率的变动也强健的控制系统的理论框架,已知有利用了以H∞控制理论为代表的先进的强健控制理论的工作台控制装置(例如,参照专利文献1)。在先进的强健控制理论中,追加传感器并使控制对象为单输入多输出系统,但对追加的传感器的配置没有限制,另外,能够设计相对于标称模型的模型化误差也稳定的反馈控制器。但是,一般来说,根据控制对象的结构、权重函数的次数等而控制器的设计自由度增加,所以反馈控制器的高频带化和强健性成为折衷的关系。

专利文献1:日本特开2002-73111号公报

发明内容

根据第一方式,提供第一驱动系统,其赋予操作量来驱动控制对象,该驱动系统具备:第一测量器,其测量与上述控制对象的第一部分的位置相关的第一控制量;第二测量器,其测量与表示包含谐振模式的行为的上述控制对象的第二部分的位置相关的第二控制量,该谐振模式相对于上述第一部分表示的刚体模式反相;以及控制部,其对上述第一以及第二测量器的测量结果进行滤波处理来求出第三控制量,并将使用该第三控制量求出的上述操作量赋予上述控制对象。

据此,能够精密且稳定地驱动控制对象。

根据第二方式,提供第一曝光装置,其利用能量束来曝光物体并在上述物体上形成图案,该曝光装置具备以保持上述物体并在规定面上移动的移动体为上述控制对象的本发明的第一驱动系统。

据此,能够精密且稳定地驱动保持物体的移动体,进而能够实现对物体的高精度的曝光。

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