[发明专利]酞菁颜料及包含酞菁颜料的颜料分散体、墨和滤色器用抗蚀剂组合物无效
申请号: | 201380043585.9 | 申请日: | 2013-08-21 |
公开(公告)号: | CN104583336A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 东隆司;北尾晓子;新藤太一;宫崎健 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C09B47/04 | 分类号: | C09B47/04;C09B67/20;C09D11/037;C09D11/322;G02B5/20;G02B5/22 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 颜料 包含 散体 器用 抗蚀剂 组合 | ||
1.一种具有以下通式(1)所表示的结构的酞菁颜料,其特征在于,
所述通式(1)中,其中,
X表示-O-CH2-R1-CH2-O-;
R1表示单环式或多环式环状烃基或-CR2R3-;
R2和R3表示烷基;
各自独立地表示取代或未取代的芳环或包含一个或两个氮原子的杂环;
M表示选自由Si、Ge和Sn组成的组的金属原子;
L1和L2各自独立地表示卤素原子、羟基、-O-CH2-R4-CH2-OR8、-O-CH2-R5-OR9或–OR10;
R4和R5表示单环式或多环式环状烃基或-CR6R7-;
R6和R7表示烷基;
R8至R10各自独立地表示氢原子、甲基或三甲基甲硅烷基;和
n表示1以上的整数。
2.根据权利要求1所述的酞菁颜料,其中所述通式(1)中的R1表示单环式或多环式环状烃基。
3.根据权利要求2所述的酞菁颜料,其中所述通式(1)中的R1为降冰片烷二基、降冰片烯二基或金刚烷二基。
4.根据权利要求1至3任一项所述的酞菁颜料,其中所述通式(1)中的各自独立地为取代或未取代的苯环、吡啶环或吡嗪环。
5.根据权利要求1至3任一项所述的酞菁颜料,其中所述通式(1)中的各自独立地为取代或未取代的苯环。
6.根据权利要求1至3任一项所述的酞菁颜料,其中所述通式(1)中的各自独立地为具有叔丁基的苯环。
7.根据权利要求1至6任一项所述的酞菁颜料,其中所述通式(1)中的M为Si。
8.一种颜料分散体,其特征在于,包括分散介质和根据权利要求1至7任一项所述的酞菁颜料。
9.一种墨,其特征在于,包括根据权利要求8所述的颜料分散体。
10.一种滤色器用抗蚀剂组合物,其特征在于,包括粘结剂树脂和可聚合聚合物的至少一种,和根据权利要求1至7任一项所述的酞菁颜料。
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