[发明专利]酞菁颜料及包含酞菁颜料的颜料分散体、墨和滤色器用抗蚀剂组合物无效
申请号: | 201380043585.9 | 申请日: | 2013-08-21 |
公开(公告)号: | CN104583336A | 公开(公告)日: | 2015-04-29 |
发明(设计)人: | 东隆司;北尾晓子;新藤太一;宫崎健 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C09B47/04 | 分类号: | C09B47/04;C09B67/20;C09D11/037;C09D11/322;G02B5/20;G02B5/22 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 颜料 包含 散体 器用 抗蚀剂 组合 | ||
技术领域
本发明涉及酞菁颜料,和用于涂料、墨喷射用墨、滤色器和树脂成型品(plastic moldings)等的生产过程的包含该酞菁颜料的颜料分散体、墨和滤色器用抗蚀剂组合物(resist composition)。
背景技术
近年来已经增加对彩色图像的高画质化的要求,包括由彩色液晶显示器生成的那些。滤色器对液晶显示器显示颜色是必不可少的,并组成影响这些液晶显示器的性能的重要组件。
常规的滤色器生产方法的已知实例包括染色法、印刷法、墨喷射法和光致抗蚀法(photoresist method)。其中,近年来光致抗蚀法已成为滤色器生产方法的主流,这是因为其能够便于光谱特性的控制和再现性,并归因于其高分辨率而清晰度模式较高。
该光致抗蚀法中,酞菁系颜料典型地用作氰系着色剂(参见专利文献1和2)。
酞菁系颜料的特征在于不昂贵且具有耐光性(lightfastness),并用于宽范围的领域内。然而,酞菁系颜料具有低显色性(color development property),且在需要高水平显色性的领域中如滤色器,已公开使用酞菁染料以改进这方面的实例(参见专利文献3和4)。
另一方面,与颜料相比,染料通常具有较低耐光性。因此,需要发展具有更好耐光性和优异显色性的酞菁系颜料以显示高清晰度图像。
[引文列表]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利申请特开2009-242687号公报
[专利文献2]WO 2007/088662
[专利文献3]日本专利申请特开平05-333207号公报
[专利文献4]PCT申请日文译文2008-511856号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明提供上述问题的解决方案。即,本发明提供具有优异的显色性的酞菁颜料,和包含该酞菁颜料的颜料分散体、墨和滤色器用抗蚀剂组合物。
用于解决问题的方案
通过以下所示的发明来达成上述问题。
第一发明涉及具有以下所示的通式(1)所表示的结构的酞菁颜料。
另外,第二发明涉及包括分散介质和以下所示的通式(1)所表示的结构的酞菁颜料的颜料分散体。
此外,第三发明涉及包含上述颜料分散体的墨。
此外,第四发明涉及包含上述酞菁颜料的滤色器用抗蚀剂组合物。
[化1]
上述通式(1)中,
X表示-O-CH2-R1-CH2-O-,
R1表示单环式或多环式环状烃基或-CR2R3-,
R2和R3表示烷基,
各自独立地表示取代或未取代的芳环或包含一个或两个氮原子的杂环,
M表示选自由Si、Ge和Sn组成的组的金属原子,
L1和L2各自独立地表示卤素原子、羟基、-O-CH2-R4-CH2-OR8、-O-CH2-R5-OR9或–OR10,
R4和R5表示单环式或多环式环状烃基或-CR6R7-,
R6和R7表示烷基,
R8至R10各自独立地表示氢原子、甲基或三甲基甲硅烷基,和
n表示1以上的整数。
发明的效果
根据本发明,可提供具有优异的显色性的酞菁颜料,和包含所述酞菁颜料的颜料分散体、墨和滤色器用抗蚀剂组合物。
从示例性实施方案的以下描述,本发明的进一步特征将变得明显。
具体实施方式
以下通过其实施方案的指示来提供本发明的较详细解释。
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