[发明专利]信息记录介质用玻璃基板的制造方法有效
申请号: | 201380045143.8 | 申请日: | 2013-06-18 |
公开(公告)号: | CN104603877B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 小松隆史 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;B24B37/26 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃基板 信息记录介质 研磨垫 供给浆液 吸附力 制造 | ||
1.一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法使用研磨装置,所述研磨装置在平台上安装有由含有连通的多个发泡孔的部件构成的研磨垫,并使用所述研磨垫对玻璃基板的表面进行研磨,
所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法包括以下的工序:
将所述玻璃基板载置到所述平台上的工序;
利用所述研磨装置一边向所述玻璃基板供给液体状研磨剂一边对所述玻璃基板的表面进行研磨的工序;以及
从所述平台取出研磨后的所述玻璃基板的工序,
在向所述研磨垫供给了所述液体状研磨剂的状态下,所述研磨垫中的至少下侧研磨垫对所述玻璃基板的吸附力在0.50g/cm2以上且15g/cm2以下。
2.根据权利要求1所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,
在从所述平台取出研磨后的所述玻璃基板的工序中,在所述研磨垫含有所述液体状研磨剂的状态下,从所述平台取出研磨后的所述玻璃基板。
3.根据权利要求2所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,
在从所述平台取出研磨后的所述玻璃基板的工序中,所述液体状研磨剂的浓度为,利用所述研磨装置对所述玻璃基板的表面进行研磨的工序中的所述液体状研磨剂的浓度的1.5倍以上。
4.一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法,所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法使用研磨装置,所述研磨装置在平台上安装有由含有多个发泡孔的部件构成的研磨垫,并使用所述研磨垫对玻璃基板的表面进行研磨,
所述信息记录介质用玻璃基板的制造方法包括以下的工序:
将所述玻璃基板载置到所述平台上的工序;
利用所述研磨装置一边向所述玻璃基板供给液体状研磨剂一边对所述玻璃基板的表面进行研磨的工序;以及
从所述平台取出研磨后的所述玻璃基板的工序,
所述研磨垫中的至少下侧研磨垫具有形成有连通相邻的所述发泡孔的多个连通孔的连续发泡结构,
在沿着所述平台的法线方向的所述下侧研磨垫的截面中,截面积为0.01mm2以上的所述连通孔以每25mm2 30个以上的密度存在,
在向所述研磨垫供给了所述液体状研磨剂的状态下,所述下侧研磨垫对所述玻璃基板的吸附力在0.50g/cm2以上且15g/cm2以下。
5.根据权利要求4所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,
在沿着所述平台的法线方向的所述研磨垫的截面中,截面积为0.01mm2以上的所述连通孔以每25mm2 80个以上的密度存在。
6.根据权利要求4或5所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,
在从所述平台取出研磨后的所述玻璃基板的工序中,在所述研磨垫含有所述液体状研磨剂的状态下,从所述平台取出研磨后的所述玻璃基板。
7.根据权利要求6所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法,其中,
在从所述平台取出研磨后的所述玻璃基板的工序中,所述液体状研磨剂的浓度为,利用所述研磨装置对所述玻璃基板的表面进行研磨的工序中的所述液体状研磨剂的浓度的1.5倍以上。
8.一种信息记录介质的制造方法,其特征在于,
在通过权利要求1~7中任一项所述的信息记录介质用玻璃基板的制造方法得到的信息记录介质用玻璃基板的表面上至少形成磁性膜。
9.一种研磨垫,其被安装在研磨装置的平台上,用于研磨处理,其特征在于,
所述研磨垫具有多个发泡孔和连通相邻的所述发泡孔的多个连通孔,
在所述研磨垫的沿着所述平台的法线方向的截面中,截面积为0.01mm2以上的所述连通孔以每25mm2 30个以上的密度存在。
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