[发明专利]制备沉淀二氧化硅的方法，沉淀二氧化硅及其用途，特别是用于增强聚合物

权利要求书

1.一种用于制备沉淀二氧化硅的方法，其中：

-使至少一种硅酸盐与至少一种酸化剂反应，以便获得沉淀二氧化硅的悬浮液，

-将所述沉淀二氧化硅的悬浮液过滤，以便获得滤饼，

-使所述滤饼经受一种包括添加铝化合物的崩解操作，

-在该崩解操作之后，优选地进行干燥阶段，

其特征在于在该崩解操作之后并在干燥阶段之前将选自二羧酸和三羧酸的多元羧酸添加到该滤饼中。

2.一种用于制备沉淀二氧化硅的方法，该类型方法包括在硅酸盐与酸化剂之间的沉淀反应，由此获得沉淀二氧化硅的悬浮液，其特征在于该方法包括以下阶段：

- 该沉淀反应是按以下方式进行的：

(i)形成一种包含参与该反应的硅酸盐的总量的至少一部分和电解质的初始容器底料，在所述初始容器底料中的以SiO₂表示的硅酸盐的浓度是小于100 g/l，

(ii)将该酸化剂添加到所述容器底料中直至获得至少7.0的该反应介质的pH值，

(iii)将酸化剂和任选的剩余量的硅酸盐同时添加到该反应介质中，

- 将所获得的二氧化硅悬浮液过滤，

- 使在该过滤结束后获得的滤饼经受一种包括添加铝化合物的崩解操作，

- 干燥由此获得的滤饼，

所述方法的特征在于在该崩解操作之后且在该干燥阶段之前，将选自二羧酸和三羧酸的多元羧酸添加到该滤饼中。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中该多元羧酸是琥珀酸。

4.如权利要求1或2所述的方法，其中所使用的该多元羧酸的一部分或全部是呈酸酐、酯、碱金属羧酸盐或铵羧酸盐的形式。

5.如权利要求1或2所述的方法，其中该铝化合物是碱金属铝酸盐。

6.如权利要求1或2所述的方法，其中在崩解操作期间添加的铝化合物的量使得与在该滤饼中存在的以SiO₂表示的二氧化硅的量的比按重量计为0.20-0.50％。

7.如权利要求1或2所述的方法，其中加入到滤饼中的多元羧酸的量使得多元羧酸与在滤饼中存在的以SiO₂表示的二氧化硅的量的比按重量计为0.75-2％。

8.如权利要求2所述的方法，其中所述电解质在初始容器底料中的浓度小于19g/l。

9.如权利要求2所述的方法，其中所述滤饼的固体含量为至多25重量％。

10.如权利要求2所述的方法，其中所述沉淀二氧化硅具有：

- 在45与550m²/g之间的BET比表面积，

- 至少为0.15重量％的以总碳表示的多元羧酸+相应的羧酸盐的含量，

- 至少为0.20重量％的铝含量。

11.如权利要求10所述的方法，其中所述沉淀二氧化硅具有为100-240m²/g的BET比表面积。

12.如权利要求10所述的方法，其中所述沉淀二氧化硅具有至少0.25重量％的以总碳表示的多元羧酸+相应羧酸盐的含量。