[发明专利]含氧化铈废磨料的再生方法

权利要求书

1.一种含氧化铈废磨料的再生方法，包括以下步骤：

将含氧化铈废浆料与包含氟类化合物的溶剂溶液进行混合，以便有选择地溶解掉包含在所述废浆料中的含氧化硅杂质；

使所述含氧化铈废浆料通过交叉流过滤系统进行清洗，以便有选择地去除所述含氧化硅杂质；以及

对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行干燥并烧结，以获得具有60至90nm的结晶尺寸及0.5至3.0μm的平均粒度的含氧化铈再生磨料，

其中所述溶剂溶液是以0.01至20M的浓度包含氟类化合物的水溶液并且所述氟类化合物为NaHF₂、(NH₄)HF₂或KHF₂，所述烧结在包含铵盐、碱金属盐、金属含氧酸、金属氧化物或碱土金属盐的助熔剂存在下在800至1200℃的温度下进行，

其中所述助熔剂包含选自氟化铵、氯化铵、氯化钠、氟化钠、氢氧化钠、氯化钾、硫酸铵、氧化硼、氯化钡、硼酸及硼酸钠中的至少一种并且是在清洗中以相对于待再生的所述废浆料的重量为1至3.0重量％的量添加的，并且

所述干燥在CD干燥机中以1至10rpm的速度进行1至30秒钟。

2.根据权利要求1所述的含氧化铈废磨料的再生方法，其中，

含氧化铈废浆料作为杂质含有氧化硅、氧化铝及其他金属成分。

3.根据权利要求1所述的含氧化铈废磨料的再生方法，其中，

所述交叉流过滤系统具有氧化铝或氧化锆过滤器，该过滤器过滤出粒径为5μm以下的颗粒。

4.根据权利要求3所述的含氧化铈废磨料的再生方法，其中，

所述交叉流过滤系统通过对所述过滤器的逆流去除所述过滤器表面的粉末。

5.根据权利要求1所述的含氧化铈废磨料的再生方法，其中，

所述清洗使用pH值调节为1至4或者pH值调节为10至14的水溶剂来进行。

6.根据权利要求1所述的含氧化铈废磨料的再生方法，还包括以下步骤：

在所述烧结之后，对由所述烧结后的废浆料得到的含氧化铈再生磨料进行粉碎及分级。

7.根据权利要求6所述的含氧化铈废磨料的再生方法，其中，

所述粉碎是利用喷气粉碎机来进行，而所述分级是利用风力分级装置、干式分级装置、利用两极点或三极点Tip的EJ-ELBO分级装置或者用于分级的筛子来进行。

8.根据权利要求1所述的含氧化铈废磨料的再生方法，其中，

含氧化铈废浆料源自已用于抛光玻璃基板的含氧化铈磨料。