[发明专利]含氧化铈废磨料的再生方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法。更具体地，本发明的含氧化铈废磨料的再生方法，可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质，实现包括清洗工艺在内的再生工艺的效率化，而且能够抑制清洗工艺中含氧化铈磨料的再凝聚。

背景技术

通常，用作电视显像管或者液晶面板的TFT-LCD用玻璃基板等，在生产过程中会成为表面的平坦度或粗糙度等不良的状态，因而难以将母玻璃直接用作电视显像管或液晶面板用玻璃基板。尤其，对于用作液晶面板的TFT-LCD用玻璃面板，正在研究各种方法以改善产品的亮度、视角、对比度等，已知这些特性也会受到TFT-LCD用玻璃基板表面的很大影响。因此，生产玻璃基板的厂家正在努力改善玻璃基板的表面，而且使用各种玻璃基板磨料。其中，作为普通磨料广泛使用含氧化铈(CeO₂)的磨料。

然而，这种含氧化铈磨料经过一定时间的玻璃抛光过程之后，因抛光效率降低被废弃而成为废浆料。这是因为，经过一定时间的抛光过程之后，所述磨料的抛光效率降低，而且会出现磨料颗粒之间的凝聚，导致产生大量划痕的风险增高。再者，抛光过程中产生的源自抛光垫的杂质会进入磨料浆料中，从而导致产生划痕的可能性进一步增高。

因此，在抛光工艺中使用一定时间后需要废弃所述磨料，这会降低工艺效率或经济性。为此，正在研究再利用所述磨料的几种技术。

对于已知的含氧化铈磨料的再利用及再生方法，主要采用了如下方法：用包含氢氟酸或氟化氢化合物等的溶剂溶液溶解掉含氧化铈废浆料中所包含的氧化硅等源自玻璃基板的杂质，通过清洗工艺将这些杂质从所述废浆料分离之后，经干燥及烧结工艺等使所述废浆料及废磨料再生。尤其，这种现有的再生方法中，在所述清洗工艺适用自然沉降法或过滤法，或者是使用倾析器(decanter)或离心分离器等，对所述废浆料进行清洗，将溶解于溶剂溶液的杂质从所述废浆料中固液分离及去除。

对于这种固液分离及清洗方法，不可能实现连续工艺且清洗效率降低，因而整个再生工艺的收率降低。再者，对于所述使用倾析器或离心分离器的方法，存在如下风险：在通过强大的离心力进行固液分离的过程中，因出现废浆料中所包含的磨料颗粒之间的凝聚而需要另进行再分散工艺，或者因生成大颗粒，使用再生磨料时会导致玻璃基板产生划痕。另外，即使另进行所述再分散工艺也存在缺陷，例如难以完全去除大颗粒，以及难以获得所要的粒度分布等。

而且，适用现有的过滤法等也存在缺陷，例如过滤器内容易沉积源自杂质等的粉末，难以去除沉积的粉末导致过滤器寿命缩短等。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种含氧化铈废磨料的再生方法，可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质，实现包括清洗工艺在内的再生工艺的效率化，而且能够抑制清洗工艺中含氧化铈磨料的再凝聚。

本发明提供一种含氧化铈废磨料的再生方法，包括以下步骤：将含氧化铈(CeO₂)废浆料与包含氟类化合物的溶剂溶液进行混合，以便有选择地溶解掉包含在所述废浆料中的含氧化硅(SiO₂)杂质；使所述含氧化铈废浆料通过交叉流过滤系统(Cross-flow fliltration system)进行清洗，以便有选择地去除所述含氧化硅(SiO₂)杂质；以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行干燥及烧结。

下面，详细描述根据本发明实施例的含氧化铈废磨料的再生方法。

本发明一实施例提供一种含氧化铈废磨料的再生方法，包括以下步骤：将含氧化铈(CeO₂)废浆料与包含氟类化合物的溶剂溶液进行混合，以便有选择地溶解掉包含在所述废浆料中的含氧化硅(SiO₂)杂质；使所述含氧化铈废浆料通过交叉流过滤系统(Cross-flow fliltration system)进行清洗，以便有选择地去除所述含氧化硅(SiO₂)杂质；以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行干燥及烧结。

在一实施例的含氧化铈废磨料的再生方法中，将源自废磨料的含氧化铈废浆料溶解于规定的溶剂溶液，藉以溶解掉源自玻璃基板等的杂质，并通过清洗去除这些杂质之后，经干燥及烧结工艺可将含氧化铈废磨料再生为再生磨料。