[发明专利]反射镜

权利要求书

1.具有分片总表面区(24)的用于光学系统(27)或检查设备的反射镜(20)，包含：

a.多个第一区域(22)，其中全体所述第一区域形成所述反射镜的分片遮挡；以及

b.至少一个第二辐射反射式区域(23)，

c.其中，所述第一区域分别在结构上由所述至少一个第二辐射反射式区域定界且因此被周向环绕，

d.其中，所述第一区域(22)非周期地布置，

e.其中，所述第一区域(22)具有在1mm至20mm范围内的直径，并且

f.其中，所述光学系统包含照明光学单元和投射光学单元，并且所述检查设备用于检查反射式光刻掩模或用于检查曝光的晶片基板。

2.根据权利要求1所述的反射镜(20)，其特征在于所述第一区域(22)布置为使得，从栅格的顶点上的所有所述第一区域(22)的布置开始，所述第一区域(22)的至少10％以关于所述顶点偏离它们直径的至少一半的方式布置。

3.根据前述权利要求中任一项的反射镜(20)，其特征在于，从位于栅格的顶点的布置开始，所述第一区域(22)以关于所述顶点偏离所述栅格的相邻顶点之间的平均距离的至多一半的方式布置。

4.根据权利要求1或2的反射镜(20)，其特征在于，所述第一区域(22)以均匀分布的方式布置，使得它们在直径小于所述反射镜(20)的直径的50％的区域中的局部密度偏离所述第一区域在整个反射镜(20)上的平均密度至多30％。

5.根据权利要求1或2的反射镜(20)，其特征在于，所述第一区域(22)的数量为至少100。

6.根据权利要求1或2的反射镜(20)，其特征在于，所述第一区域(22)的全体具有一表面区，其组成所述反射镜(20)的总表面区(24)的至多30％。

7.根据权利要求1或2的反射镜(20)，其特征在于，所述第一区域(22)为辐射透射式的。

8.光学部件(33)，包含：

a.根据前述权利要求中任一项的至少一个反射镜(20)，

b.用于调节所述至少一个反射镜(20)的调节装置(32)。

9.光学部件(33)，包括：

根据权利要求1至7中任一项的至少两个反射镜(20)，和

用于调节所述至少两个反射镜(20)中的每一个的调节装置(32)，

其中所述至少两个反射镜(20)通过所述调节装置(32)而能够更换。

10.用于将物场(5)成像至像场(10)的投射光学单元(9)，包含根据权利要求1至7中任一项的反射镜。

11.光学系统(27)，包含：

a.照明光学单元(4)，以照明辐射(14)照明物场(5)，以及

b.根据权利要求10的投射光学单元(9)，

c.其中，所述反射镜(20)的第一区域(22)布置在所述照明光学单元(4)的光束路径中，并且

d.其中，所述反射镜(20)的至少一个第二辐射反射式区域(23)布置在所述投射光学单元(9)的光束路径中。

12.根据权利要求11的光学系统(27)，其特征在于，所述光学系统具有物方数值孔径NAO和主光线角CRA，其中，arcsin(NAO)≥CRA适用。

13.用于微光刻的投射曝光设备(1)，包含：

a.辐射源(3)，以及

b.根据权利要求11或12的光学系统(27)。