[发明专利]反射镜

说明书

具有分片总表面区的反射镜，其中分片形成非周期布置。

相关申请的交叉引用

通过引用将德国专利申请DE 10 2012 215 502.9的内容并入于此。

技术领域

本发明涉及一种反射镜和包含该类型反射镜的光学组件。另外，本发明涉及一种包含该类型反射镜的投射光学单元，包含该类型投射光学单元的光学系统，以及包含该类型投射光学单元的投射曝光设备。而且，本发明涉及一种优化反射镜设计的方法。最后，本发明涉及一种制造微结构或纳米结构组件的方法。

背景技术

例如从DE 10 2010 041 632 A1已知用于EUV辐射的反射镜，尤其是用于EUV投射曝光设备的反射镜。

发明内容

本发明的目的是发展一种反射镜，尤其是用于EUV辐射的反射镜，使得可改进投射曝光设备，尤其是EUV投射曝光设备的光学质量。

该目的通过具有分片总表面区的用于光学系统或检查设备的反射镜来实现。该反射镜包含：多个第一区域(22)，其中全体所述第一区域形成所述反射镜的分片遮挡；以及至少一个第二辐射反射式区域(23)，其中，所述第一区域分别在结构上由所述至少一个第二辐射反射式区域定界且因此被周向环绕，其中，所述第一区域(22)非周期地布置，其中，所述第一区域(22) 具有在1mm至20mm范围内的直径，并且所述光学系统包含照明光学单元和投射光学单元，并且所述检查设备用于检查反射式光刻掩模或用于检查曝光的晶片基板。

首先，充当光刻掩模的掩模母版的反射率由用于照明的EUV辐射的特定入射角开始急剧减小。其次，在以小入射角照明掩模母版的情况中，尤其在垂直照明掩模母版的情况中(即，在照明光学单元的主光线的路径平行于光轴以及掩模母版的关于光轴垂直取向的情况中)，照明光学单元和/或投射光学单元中光束路径的遮挡可因构造原则而发生。尤其是，随着物方数值孔径增大，主光线角的相应增加在没有掩模母版的反射率的相当大损失的情况下是不再可能的。根据本发明的解决该问题的一个方法在于实施具有分片总表面区域的反射镜。该反射镜尤其包含多个第一区域，该多个第一区域各在结构上由至少一个第二区域定界且因此被周向环绕。该第一区域形成关于第二反射辐射区域的多个遮挡。换言之，全体第一区域形成反射镜、尤其是第二反射辐射区域的分片遮挡。在此，单独第一区域在各个情况中优选以简单连接方式实施。两个不同的第一区域各自以非连接方式实施。尤其是，它们通过第二区域而彼此分开。

根据本发明，另外认识到的是，第一区域在反射镜上的布置对光学质量、尤其是成像特性有极重要的影响，光学特性可尤其由例如远心度、归一化图像对数斜率(NILS)以及其在像场上的变化(NILS场分布)表征。

本发明的核心在于非周期地将第一区域布置在反射镜上。所述第一区域尤其非对称地、尤其非点对称地布置。

非周期布置应理解为表示尤其不是平移不变量和/或旋转不变量的布置。根据一个优选实施例，第一区域的布置不能通过位移或通过旋转转变为其自身，或者换言之，在第一区域布置的任何任意位移和/或旋转时，有正数个第一区域与第二区域重叠。

第一区域的直径尤其在1mm至20mm的范围内，尤其在2mm至15mm 的范围内，尤其在3mm至10mm的范围内，尤其在4mm至8mm的范围内。

第一区域的一个优选布置例如是，第一区域分别布置在彭罗斯镶嵌的栅格点处。

通过第一区域的这种布置可实现的是在掩模母版处反射时出现的衍射级(通常是平移不变量)仅统计上随机地照在第一区域上，即反射镜的遮挡。因此，尤其可实现的是，遮挡对衍射级的影响最小化。反过来说，对于任意周期性遮挡布置，可发现，大量衍射级入射在第一区域上的掩模母版结构被遮挡，这导致对这些结构的差成像质量。