[发明专利]氮化硅质烧结体及加热装置以及吸附装置有效

专利信息
申请号: 201380050338.1 申请日: 2013-09-27
公开(公告)号: CN104684870A 公开(公告)日: 2015-06-03
发明(设计)人: 大田瑞穗;石川和洋;织田武广 申请(专利权)人: 京瓷株式会社
主分类号: C04B35/584 分类号: C04B35/584;F27D11/02;H05B3/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 氮化 烧结 加热 装置 以及 吸附
【权利要求书】:

1.一种氮化硅质烧结体,其特征在于,具有氮化硅的结晶、MgRE4Si3O13的结晶(RE为稀土元素)、和REMgSi2O5N的结晶。

2.如权利要求1所述的氮化硅质烧结体,其特征在于,含有80质量%以上的所述氮化硅而成,利用X射线衍射法求得的衍射角31°~34°处的所述MgRE4Si3O13的结晶的峰强度I1相对于衍射角27°~28°处的所述氮化硅的结晶的峰强度I0的比率(I1/I0×100)为2%以上且9%以下。

3.如权利要求1或权利要求2所述的氮化硅质烧结体,其特征在于,在表层中散布有包含铁和硅的第1化合物,当量圆直径为0.05μm以上且5μm以下的所述第1化合物的个数在每1mm2中为2.0×104个以上且2.0×105个以下。

4.如权利要求1至权利要求3中任一项所述的氮化硅质烧结体,其特征在于,在表层中散布有包含钨和硅的第2化合物,当量圆直径为0.05μm以上且5μm以下的所述第2化合物的个数在每1mm3中为2.0×104个以上且2.0×105个以下。

5.一种加热装置,其特征在于,具备加热器、和内包该加热器进行保护的保护管而成,所述保护管包含权利要求1至权利要求4中任一项所述的氮化硅质烧结体。

6.一种吸附装置,其特征在于,具备具有吸附孔的吸附构件、支承该吸附构件的支承构件而成,所述吸附构件包含权利要求1至权利要求4中任一项所述的氮化硅质烧结体。

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