[发明专利]氢促进的灰料体的氟化

权利要求书

1.氟化灰料体的方法，其包括以下步骤：

a)提供灰料体，和

b)在(1280-n*250)℃至(1220-n*100)℃范围的温度下用包含C_nF_2n+2和氢的气体混合物处理所述灰料体，其中n=1或者2。

2.根据权利要求1的方法，其特征在于，所述灰料体的处理用包含CF₄和氢的气体混合物进行，并且在1050至1120℃的温度范围进行。

3.根据权利要求1的方法，其特征在于，所述灰料体的处理用包含C₂F₆和氢的气体混合物进行，并且在780至1000℃的温度范围进行。

4.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物含有最多65体积%的C_nF_2n+2和氢，其中n=1或者2，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

5.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物具有10至60体积%的C₂F₆或者CF₄，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

6.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物含有35至95体积%的氮，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

7.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物以最多15体积%的量具有氢，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

8.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述灰料体是多孔SiO₂灰料体。

9.根据权利要求1的方法，其特征在于，所述灰料体的处理用包含C₂F₆和氢的气体混合物进行，并且在850至980℃的温度范围进行。

10.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物含有5至35体积%的C_nF_2n+2和氢，其中n=1或者2，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

11.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物具有12至30体积%的C₂F₆或者CF₄，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

12.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物含有70至90体积%的氮，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

13.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物以最多5体积%的量具有氢，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

14.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物以在1至4体积%之间的量具有氢，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

15.根据权利要求1或2的方法，其特征在于，所述气体混合物以在1至3体积%之间的量具有氢，基于25℃下所述气体混合物的总体积计。

16.根据权利要求8的方法，其特征在于，所述灰料体是包含沉积的SiO₂颗粒的灰料管。

17.根据权利要求8的方法，其特征在于，所述灰料体是包含沉积的SiO₂颗粒的灰料管，具有0.48 g/cm³至0.77 g/cm³的平均密度和大于5 m²/g的比表面积。

18.制造合成玻璃的方法，所述合成玻璃用于光学元件，所述方法包括以下步骤：

i)制备或者提供灰料体，

ii)根据权利要求1至17的任一项氟化所述灰料体，和

iii)使所述经氟化的灰料体在低于0.1bar的压力和高于氟化温度的温度下玻璃化。

19.根据权利要求18的方法，其特征在于，所述灰料体的制备通过以下方式进行，即借助至少一个沉积燃烧器，将用于物料施加的SiO₂颗粒沉积在绕其纵轴旋转的载体上。