[发明专利]用于减少带电粒子束样品制备中的幕化的方法和系统

权利要求书

1.一种在带电粒子束系统中暴露样品中的结构的一部分以供观察的方法，包括：

从大块样品提取样品；

确定在多个高纵横比结构之间减少幕化的样品取向；

将样品装配至带电粒子束系统中的夹持器，使得在研磨样品以暴露结构时，夹持器使样品取向在减少幕化的取向上；

通过在减少幕化的方向上研磨样品来暴露结构；以及

对结构成像。

2.权利要求1的方法，其中通过在减少幕化的方向上研磨样品来暴露结构包括旋转夹持器。

3.权利要求1或权利要求2的方法，其中从大块样品提取样品包括使用纳米操纵器或具有绕至少一个旋转轴旋转样品的能力的其它装置从大块样品提取样品。

4.权利要求1-2中任一项的方法，其中高纵横比结构包括高纵横比孔。

5.权利要求1-2中任一项的方法，其中暴露结构包括用离子束或电子束研磨结构。

6.权利要求1-2中任一项的方法，其中结构的图像包括在垂直于结构的取向平面的图像中查看结构。

7.一种暴露结构的一部分以供观察的方法，包括：

确定穿过工件的平面，所述平面最大化导致幕化或其它图像伪像的结构的区域；

倾斜样品使得平面垂直于聚焦离子束的轴；以及

用聚焦离子束研磨工件以暴露平面下方的截面。

8.权利要求7的方法，其中导致幕化的结构包括高纵横比孔。

9.权利要求7或权利要求8的方法，其中导致幕化的结构包括金属结构。

10.一种带电粒子束系统，包括：

离子束柱；

大块样品台，大块样品台能够在至少第一方向和不同于所述第一方向的第二方向上平移；

运动台，运动台布置在大块样品台上，运动台能够独立地在不同于所述第一方向和第二方向的第三方向上平移并且独立地关于轴旋转；

布置在运动台上的样品探针，样品探针能够夹持样品以供通过离子束处理或成像，样品探针能够独立地关于轴旋转；以及

控制器，其被编程以用于：

从大块样品提取样品；

确定减少幕化的样品取向；

将样品装配至样品探针；

在研磨样品以暴露样品中的结构以供观察时，使样品取向在减少幕化的取向上；

通过在减少幕化的方向上研磨样品来暴露结构；以及

对结构成像。

11.一种带电粒子束系统，包括：

离子束柱；

大块样品台，大块样品台能够在至少第一方向和不同于所述第一方向的第二方向上平移；

运动台，运动台布置在大块样品台上，运动台能够独立地在不同于所述第一方向和第二方向的第三方向上平移并且独立地关于轴旋转；以及

控制器，其被编程以用于：

从大块样品提取样品；

将样品装配至样品探针；

确定穿过工件的平面，所述平面最大化导致幕化或其它图像伪像的结构的区域；

倾斜样品使得平面垂直于聚焦离子束的轴；以及

用聚焦离子束研磨工件以暴露平面下方的截面。

12.权利要求10-11中任一项的带电粒子束系统，还包括用于从大块样品提取样品的纳米操纵器。

13.权利要求12的带电粒子束系统，其中纳米操纵器被适配用于将样品从大块样品转移至样品探针。

14.权利要求10、11或13中任一项的带电粒子束系统，其中结构为高纵横比结构。

15.权利要求10、11或13中任一项的带电粒子束系统，还包括用于查看的电子束柱。