[发明专利]光固化性组合物和膜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光固化性组合物和使用所述光固化性组合物的膜的制造方法。

背景技术

光纳米压印法是将具有预定的图案形状的抗蚀膜形成在例如要加工的被加工基材的基板上的一种方法，并且具有包括例如以下步骤(a)至(d)的制造方法(非专利文献1)。

(a)配置抗蚀剂(光固化性组合物)的配置步骤。

(b)将具有形成微细凹凸图案的表面的模具与所述光固化性组合物接触的模具接触步骤。

(c)将所述光固化性组合物使用光照射的光照射步骤。

(d)在所述光照射步骤之后，将所述模具与所述光固化性组合物脱离的脱模步骤。

将通过包括以上步骤(a)至(d)的制造方法形成的抗蚀膜的图案形状通过将模具的凹凸图案转印至配置在基板上的抗蚀膜来形成。

此外，当使用光纳米压印法时，其重要的目的是，降低在脱模步骤(步骤(d))中从抗蚀剂固化物分离(脱离)模具需要的力，即，脱模力。这原因是，如果脱模力高，例如，遗憾地，则缺陷会在图案中产生，和/或由于基板从平台(stage)浮起，对齐精度会降低。

为了解决上述问题，专利文献1已经提出一种方法，其使用含有通过光化学反应产生气体，例如氮气或二氧化碳的感光性气体产生剂(photosensitive gas generating agent)的光固化性组合物。上述方法是其中在光固化性组合物和模具的界面处，其间的结合或分子相互作用通过在光照射步骤中产生自感光性气体产生剂的气体的压力而破坏或消除从而降低脱模力的方法。

引用列表

专利文献

PTL 1日本专利特开No.2010-262980

非专利文献

NPL 1SPIE，第3676卷，第379页

NPL 2Journal of the American Chemical Society，第127卷，第9952-9953页

发明内容

发明要解决的问题

然而，在专利文献1提出的方法中，已经存在的问题是，因为产生气体的光照射步骤花费长时间，生产性降低。另外，即使添加感光性气体产生剂，在模具和光固化性组合物之间产生的脱模力依然不利地高。

鉴于上述问题，本发明提供一种降低了脱模力的光固化性组合物。另外，本发明也提供一种具有高生产性的使用光压印法的膜的制造方法。

用于解决问题的方案

本发明的光固化性组合物是一种光固化性组合物，其在与具有形成了凹凸图案的表面的模具接触的同时使用光来固化从而制造具有凹凸图案的膜。本发明的光固化性组合物包括：聚合性化合物；光聚合引发剂；和具有光刺激响应部位(photostimulation responsive portion)的感光性气体产生剂。在本发明的所述光固化性组合物中，所述感光性气体产生剂具有包括至少一个烯化氧链的重复结构并且通过光照射从所述光刺激响应部位产生气体。

发明的效果

根据本发明，可以提供一种降低了脱模力的光固化性组合物。另外，根据本发明，也可以提供一种具有高生产性的使用光压印法的膜的制造方法。

本发明的进一步特征将参考附图从示例性实施方案的以下说明变得明显。

附图说明

图1包括示出根据本发明的实施方案的膜的制造方法的一个实例的示例性截面图。

具体实施方式

下文中，将适当地参考图来详细地描述本发明的实施方案。然而，本发明不限于以下实施方案。另外，没有偏离本发明的范围的基于本领域技术人员的常识进行的以下实施方案的适当改变和改善等也被认为在本发明的范围内。

另外，要后述的本发明的膜的制造方法是，例如，使用光压印法的膜的形成方法。当使用光压印法时，具有图案尺寸为1nm至10mm的膜的形成方法是优选的。另外，具有图案尺寸为大约10nm至100μm的膜的形成方法是更优选的。通常，将使用光来形成具有纳米尺寸(1至100nm)图案(凹凸结构)的膜的图案形成技术称为光纳米压印法。本发明使用光纳米压印法。

光固化性组合物