[发明专利]带导电性薄膜的玻璃基板、薄膜太阳能电池、低辐射玻璃基板、带导电性薄膜的玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及带导电性薄膜的玻璃基板、薄膜太阳能电池、低辐射玻璃基板、带导电性薄膜的玻璃基板的制造方法。

背景技术

一直以来，已知在玻璃基板上形成有导电性薄膜的带导电性薄膜的玻璃基板，被使用于例如太阳能电池模块和建筑用低辐射玻璃等。这样的带导电性薄膜的玻璃基板中，制造时和使用时导电性薄膜可能会发生膜剥离，为了解决该问题而进行了各种研究。

例如，专利文献1中揭示了通过在含碱基板玻璃上依次形成用于赋予凹凸的膜厚以上的具有结晶性的金属氧化物的基底膜、由SiO₂形成的反应所述基底膜的膜厚的碱阻隔连续膜、由掺入杂质的SnO₂形成的膜厚以上的透明导电膜，使透明导电膜的附着力提高。

此外，专利文献1中揭示在玻璃基板上通过热分解喷雾法或CVD法制成SnO₂基底膜，通过结晶粒子的生长而形成凹凸，以及因该凹凸而膜剥离得到抑制。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开2000-261013号公报

发明的概要

发明所要解决的技术问题

然而，该方法难以控制结晶粒子的大小，因而结晶粒子变大，凹凸的密度也容易变疏。因此，无法认为能够充分抑制实际的使用环境下、即高温且对导电性薄膜施加电压的环境下的导电性薄膜的剥离。此外，结晶粒子变大，因此雾度也容易变大，带导电性薄膜的基板的透明性下降。此外，用于凹凸形成用基底膜的原材料也需另外准备。

鉴于上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供在高温的使用环境下，特别是在对导电性薄膜施加电压的使用环境下，可抑制导电性薄膜的膜剥离的发生且抑制了雾度的带导电性薄膜的玻璃基板。

解决技术问题所采用的技术方案

为了解决上述课题，本发明提供带导电性薄膜的玻璃基板，在玻璃基板的面上依次层叠有底涂层和导电性薄膜，所述玻璃基板的雾度在3％以下，所述玻璃基板的层叠所述底涂层、所述导电性薄膜的一侧的面的表面粗糙度(Ra)为0.5nm以上50nm以下。

此外，本发明还提供带导电性薄膜的玻璃基板，在玻璃基板的面上依次层叠有含氧化硅的底涂层和导电性薄膜，所述带有含氧化硅的底涂层的玻璃基板的雾度在3％以下，所述带有含氧化硅的底涂层的玻璃基板的层叠所述导电性薄膜的一侧的面的表面粗糙度(Ra)为0.5nm以上50nm以下。

发明的效果

本发明的带导电性薄膜的玻璃基板中，玻璃基板的表面粗糙度致密而适度细小，且雾度小。因此，透明性良好，在高温的使用环境下，特别是对导电性薄膜施加电压的使用环境下，可抑制导电性薄膜的膜剥离的发生。

附图的简单说明

图1是本发明的实施方式1的带导电性薄膜的玻璃基板的剖视图。

图2是本发明的实施方式3的薄膜太阳能电池的剖视图。

图3是本发明的实施例的喷射器的剖视图。

实施发明的方式

以下，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明，本发明并不限于下述的实施方式，在不超出本发明的范围内可向下述的实施方式中施加各种变形和置换。

[实施方式1]

本实施方式中，对本发明的带导电性薄膜的玻璃基板的一个构成例进行说明。

本实施方式的带导电性薄膜的玻璃基板中，在玻璃基板的面上依次层叠有底涂层和导电性薄膜，所述玻璃基板的雾度在3％以下，所述玻璃基板的层叠所述底涂层、所述导电性薄膜的一侧的面的表面粗糙度(Ra)为0.5nm以上50nm以下。

以下，关于本实施方式的带导电性薄膜的玻璃基板的具体的构成例，使用图1进行说明。

图1是示意地表示本实施方式的带导电性薄膜的玻璃基板的剖视图的图，具有图中自下方依次层叠有玻璃基板11、底涂层12、导电性薄膜(面涂层)13的构成。以下，对玻璃基板和各层的构成进行说明。

＜玻璃基板＞

作为玻璃基板，无特别限定，可根据用途进行选择。具体来说，可使用例如钠钙硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼酸盐玻璃、锂铝硅酸盐玻璃、石英玻璃、硼硅酸盐玻璃、无碱玻璃和其它各种玻璃。

作为底涂层12，如后所述设置具有碱阻隔性的层的情况下，具有碱阻隔性的底涂层通常为了抑制碱成分从含碱成分的玻璃基板向导电性薄膜13等的扩散而设置。因此，鉴于所述目的，这样的情况下，也可优选使用例如钠钙硅酸盐玻璃等含碱金属氧化物的含碱玻璃。