[发明专利]模具测量装置

权利要求书

1.一种模具测量装置，其对阳模主体以及阴模的高度进行测量，

所述模具测量装置的特征在于，

具备测量器，该测量器对从预先设定的阳模基准位置至所述阳模主体的端面的距离、以及从预先设定的阴模基准位置至所述阴模的端面的距离进行测量，

所述阳模基准位置与所述阴模基准位置不同地进行设定。

2.根据权利要求1所述的模具测量装置，其特征在于，

所述阴模基准位置设定为比所述阳模基准位置更接近所述测量器。

3.根据权利要求1或2所述的模具测量装置，其特征在于，

进一步具备供所述阴模载置的阴模支撑部件以及对所述阳模主体进行支撑的阳模主体支撑部件，

所述阴模基准位置设定于所述阴模支撑部件，

所述阳模基准位置设定于阳模主体支撑部件，

对所述阳模主体进行支撑的支撑部进一步形成于所述阴模支撑部件。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的模具测量装置，其特征在于，进一步具备：

基于所述测量器的测量结果对所述阳模主体或者所述阴模的所述高度进行计算的运算单元；

读取标记于所述阳模主体或者所述阴模的识别编码的编码读取器；以及

用于与管理模具的模具管理单元进行通信的通信单元。

5.根据权利要求4所述的模具测量装置，其特征在于，

所述测量器具备能够移动的测头，该测头与定位于所述阳模基准位置的所述阳模或者基于所述阴模基准位置而被定位的所述阴模的所述端面抵接，

设定成为所述测头的移动位置的基准的测量基准位置，

固定地设定从所述测量基准位置至所述阴模基准位置的距离L1，

固定地设定从所述阴模基准位置至所述阳模基准位置的距离L2，

固定地设定从所述测量基准位置至所述阳模基准位置的距离L3，

若将在所述测头抵接于所述阴模的所述端面时的所述测头距所述测量基准位置的行程设为ST1，将所述测头抵接于所述阳模主体的所述端面时的行程设为ST2，则所述运算单元通过(L1－ST1)对所述阴模的所述高度进行计算，或者，通过(L3－ST2)＝(L1－ST2+L2)对所述阳模主体的所述高度进行计算。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的模具测量装置，其特征在于，

所述模具测量装置与模具研磨装置一体化，或者，设置为与模具研磨装置邻接。