[发明专利]基板定向腔室无效
申请号: | 201380054551.X | 申请日: | 2013-10-07 |
公开(公告)号: | CN104737269A | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 北村伸;青木裕司 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 定向 | ||
领域
本发明的实施方式一般涉及半导体处理设备。
背景
集成多个腔室的多腔室半导体制造系统被使用于处理基板,以制造半导体装置。在多腔室制造系统中,使用传输机器人在相关的腔室之间传输基板。该系统可以包括定向腔室,该定向腔室从机器人接收在可转动台座上的基板,并检测在该台座上的基板的位置和方向,以便于在处理参数范围内将基板放置在随后的腔室中。
一些定向腔室使用光源和光接收单元来进行基板的边缘检测。该光源照亮基板的一部分外周。其中一些光被基板阻挡而无法到达光接收单元,从而被识别为阴影区。到达光接收单元的光则被识别为传输区。当基板旋转一周时,分析单元分析光接收单元上的阴影区位置变化,并基于此变化确定方向和偏心度。
然而,发明人已经观察到的是,使用一些传统的定向腔室并无法明确地确定阴影区和传输区。因此,发明人提供了一种用以在基板定向腔室中进行基板检测的改良设备和方法。
概述
提供用以在基板处理系统中测定基板的方向的定向腔室。在一些实施方式中,一种定向腔室包括包围内部空间的壳体;位于该壳体内部的可旋转台座,该可旋转台座包括基板支撑表面,该基板支撑表面适以支撑基板;位于该台座上方的光源,当基板被载至该可旋转台座上时,定位该光源以提供照明光至该基板的外周,其中来自该光源的该照明光从垂直线倾斜一角度朝向该基板的中心,该垂直线垂直于该基板支撑表面延伸;具有光接收表面的光接收单元,该光接收表面上设置多个光接收元件,所述多个光接收元件接收来自该光源的照明光;和分析由所述光接收元件接收的照明光的分析单元。
在一些实施方式中,一种定向腔室包括包围内部空间的壳体;位于该壳体内部的可旋转台座,该可旋转台座包括基板支撑表面,该基板支撑表面适以支撑基板;位于该台座上方的激光光源,当基板被载至该可旋转台座上时,定位该激光光源以提供照明光至该基板的外周,其中来自该光源的照明光从垂直线倾斜约55°至约75°的角度朝向该基板的中心,该垂直线垂直于该基板支撑表面延伸;具有光接收表面的光接收单元,该光接收表面上设置多个电荷偶合装置光接收元件,所述多个电荷偶合装置光接收元件接收来自该光源的照明光;和分析由所述光接收元件接收的该照明光的分析单元。
在一些实施方式中,一种用于定向腔室的方法包括将基板支撑于基板支撑表面上;提供从垂直线以介于约55°和约75°的角度倾斜的照明光至该基板的外周;旋转上面支撑该基板的基板支撑至少一周;在光接收单元的光接收表面上接收被该基板的该外周散射的光;将该接收的散射光识别为阴影区;发送该阴影区的位置变化至分析单元;分析该阴影区的该位置变化;和基于该阴影区的该位置变化测定该基板的方向和偏心度。
以下更详细地描述其他的实施方式和变化。
附图简要说明
可以通过参照附图中绘示的本发明的说明性实施方式来了解以上简单概述的和以下更加详细讨论的本发明的实施方式。然而应注意的是,附图说明的只是本发明的典型实施方式,因而不应将附图说明视为是对本发明范围作限制,因本发明可认可其他同等有效的实施方式。
图1为绘示依据本发明的一些实施方式的定向腔室的概观的截面示意图。
图2A绘示使用传统的定向腔室检测透明基板的外周的结果。
图2B绘示使用依据本发明的一些实施方式的定向腔室检测透明基板的外周的结果。
图2C绘示使用依据本发明的一些实施方式的定向腔室检测透明基板的外周的结果。
图2D绘示使用依据本发明的一些实施方式的定向腔室检测透明基板的外周的结果。
图3为绘示依据本发明的一些实施方式的定向腔室的概观的截面示意图。
图4为半导体制造系统的平面图,其中可以使用本发明的定向腔室。
图5为图示传统定向腔室的概观的截面图。
为了便于了解,已经在可能之处使用相同的附图标记来表示附图共有的相同元件。附图并未依比例绘制,并且可以为了清晰而简化附图。构思的是,可以受益地将一个实施方式的元件和特征并入其他实施方式中而不需进一步描述。
具体描述
本发明涉及一种用以在定向腔室中检测台座上的基板的位置的方法和设备。以下参照附图来说明本发明的实施方式。
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