[发明专利]防反射多层膜

权利要求书

1.一种防反射多层膜，其通过交替地层叠由高折射率的第一电介质构成的电介质层、和由折射率低于该第一电介质的第二电介质构成的电介质层的至少两种电介质层而成，其特征在于，

由构成所述防反射多层膜的多个电介质中折射率最高的电介质构成的多个电介质层中的至少一层为通过斜向蒸镀而形成的斜向蒸镀层。

2.根据权利要求1所述的防反射多层膜，其特征在于，

所述防反射多层膜具有两层以上的斜向蒸镀层。

3.根据权利要求2所述的防反射多层膜，其特征在于，

所述两层以上的斜向蒸镀层在斜向蒸镀层的面内的光轴不同，以使得在各自的斜向蒸镀层中产生的双折射被在其他的斜向蒸镀层中产生的双折射抵消。

4.根据权利要求3所述的防反射多层膜，其特征在于，

在垂直方向上测定出的双折射为1nm以下。

5.根据权利要求1所述的防反射多层膜，其特征在于，

构成所述斜向蒸镀层的电介质的折射率为1.9以上且2.5以下。

6.根据权利要求1所述的防反射多层膜，其特征在于，

所述第一电介质为五氧化二钽或五氧化铌。

7.根据权利要求1所述的防反射多层膜，其特征在于，

所述第二电介质为非化学计量性的氧化硅。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的防反射多层膜，其特征在于，

在成为最上层的所述电介质层上，形成有含有氟的保护层。

9.根据权利要求8所述的防反射多层膜，其特征在于，

所述保护层的厚度为1nm以上且2nm以下。