[发明专利]防反射多层膜

说明书

技术领域

本发明涉及在光学元件的表面上形成的防反射多层膜。

背景技术

在例如数码相机、图像扫描仪、以及液晶显示装置、投影仪等光学设备中，使用有透镜、各种滤光器等光学元件。光学元件的形状和光学的作用根据用途等有各种各样，但无论是哪种情况，一般都在光学元件的表面上设置有单层或多层的防反射膜。这是为了不因光学元件的表面反射所带来的损失而导致光的利用效率下降。

作为防反射多层膜，已知有例如层叠折射率不同的多个电介质材料而形成的结构(所谓的电介质多层膜)(专利文献1、2)。根据所使用的波段，采用电介质多层膜的防反射多层膜的电介质材料的组合、它们的折射率、以及各电介质层的层数、层叠顺序等不同，例如，在使用两种电介质材料的情况下，交替地层叠由高折射率材料构成的电介质层和由低折射率材料构成的电介质层。

另外，还提出有从斜向对无机材料进行蒸镀而形成一个斜向蒸镀层，并将其用作单层构造的防反射膜的方案(专利文献3、4)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002-156507号公报

专利文献2：日本特开2006-119525号公报

专利文献3：日本特开平7-027902号公报

专利文献4：日本特开昭63-075701号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

在大部分光学设备中，由于以露出的状态配置光学元件，所以容易附着污垢、灰尘。当附着污垢、灰尘时，光学性能固然会变差。另外，还存在由于带电等而使光学元件本身吸附周边的污垢、灰尘的情况。此外，即使在几乎密闭的状态下使用光学元件，也具有在进行维修的情况下暴露于外部空气而附着污垢、灰尘等的可能性。

这样，在污垢、灰尘等附着于光学元件的表面的情况下，需要通过空气除尘器等来去除附着的污垢、灰尘，以不使光学性能劣化，但是一次完全地去除附着的污垢、灰尘并不容易。例如，即使通过空气除尘器吹入空气，残留有细小的污垢、灰尘的情况也较多。因此，不仅在光学元件的表面上如上述那样设置防反射膜，还期望设置防尘性的涂层。

另一方面，若在防反射膜上进一步设置防尘性的涂层，则工时增加，所以成本上升。另外，还存在通过设置防尘性的涂层而使得防反射膜所带来的反射防止效果降低的情况。此外，由于光学元件的厚度因防尘性的涂层而增加，所以若对光学设备中使用的全部的光学元件设置防尘性的涂层，则还存在整体形成无法忽视的厚度而妨碍光学设备的小型化、薄型化的情况。

本发明的目的在于，提供具有防尘性的防反射多层膜。

用于解决技术问题的手段

为了达到上述目的，本发明的防反射多层膜通过交替地层叠由高折射率的第一电介质构成的电介质层、和由折射率低于该第一电介质的第二电介质构成的电介质层的至少两种电介质层而成，并且，由构成防反射多层膜的多个电介质中折射率最高的电介质构成的多个电介质层的至少一层为通过斜向蒸镀而形成的斜向蒸镀层。

优选防反射多层膜具有两层以上的斜向蒸镀层。优选两层以上的斜向蒸镀层在斜向蒸镀层的面内的光轴不同，以使得在各自的斜向蒸镀层中产生的双折射被在其他的斜向蒸镀层中产生的双折射抵消。

优选在垂直方向上测定出的双折射为1nm以下。优选构成斜向蒸镀层的电介质的折射率为1.9以上且2.5以下。

优选第一电介质为五氧化二钽或五氧化铌。优选第二电介质为非化学计量性的氧化硅。

优选在成为最上层的电介质层上，形成有含有氟的保护层。优选该保护层的厚度为1nm以上且2nm以下。

发明的效果

在本发明的防反射多层膜中，交替地层叠折射率不同的至少两种电介质层，并且，由折射率最高的电介质构成的多个电介质层的至少一层为通过斜向蒸镀而形成的斜向蒸镀层，从而除了起到反射防止功能之外，还能够起到防尘功能。由此，能够防止在防反射多层膜上附着污垢、灰尘而导致光学性能变差。

附图说明

图1是示出本发明的防反射多层膜的一个例子的剖视图。

图2是示出用于形成防反射多层膜的蒸镀装置的说明图。

图3是示出由四层构成的防反射多层膜的剖视图。

图4是示出由八层以上构成的防反射多层膜的剖视图。

图5是示出防反射多层膜的变形例的剖视图。

图6是示出各斜向蒸镀层的蒸镀方向的说明图。

图7是示出三层作为图1的斜向蒸镀层的高折射率层的蒸镀方向的说明图。