[发明专利]低折射层涂敷用组合物及包含该组合物的透明导电性膜

权利要求书

1.一种低折射层涂敷用组合物，其特征在于，包含硅氧烷化合物及光产酸剂。

2.根据权利要求1所述的低折射层涂敷用组合物，其特征在于，

所述硅氧烷化合物包含由化学式1形成的硅氧烷聚合物，

化学式1

(R₁)_n-Si-(O-R₂)_4-n，

所述R₁是碳数1至18的烷基、乙烯基、烯丙基、环氧基或丙烯酸基，所述R₂是具有碳数1至6的烷基或乙酰氧基，所述n是0＜n＜4的整数。

3.根据权利要求2所述的低折射层涂敷用组合物，其特征在于，

所述硅氧烷聚合物的分子量为500至50000。

4.根据权利要求1所述的低折射层涂敷用组合物，其特征在于，相对于总100重量％，包含5重量％至100重量％的所述硅氧烷化合物。

5.根据权利要求1所述的低折射层涂敷用组合物，其特征在于，

所述硅氧烷化合物通过溶胶-凝胶反应形成。

6.根据权利要求1所述的低折射层涂敷用组合物，其特征在于，

所述光产酸剂对300nm至400nm波长的紫外光照射具有活性。

7.根据权利要求1所述的低折射层涂敷用组合物，其特征在于，

所述光产酸剂是选自离子性光产酸剂、非离子性光产酸剂及高分子类光产酸剂中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的低折射层涂敷用组合物，其特征在于，

相对于总100重量％，包含1重量％至30重量％的所述光产酸剂。

9.一种透明导电性膜，其特征在于，包含利用权利要求1所述的低折射层涂敷用组合物形成的低折射层。

10.根据权利要求9所述的透明导电性膜，其特征在于，所述透明导电性膜是透明基材、所述高折射层、低折射层及导电层的层压结构。

11.根据权利要求9所述的透明导电性膜，其特征在于，

所述低折射层的折射率为1.4至1.5。

12.根据权利要求9所述的透明导电性膜，其特征在于，

所述低折射层的厚度为5nm至100nm。

13.根据权利要求10所述的透明导电性膜，其特征在于，

所述高折射层的厚度为20nm至150nm。

14.根据权利要求10所述的透明导电性膜，其特征在于，

所述透明基材是含有选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚碳酸酯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、乙烯-醋酸乙烯酯、聚乙烯醇及它们的组合构成的组中的任意一种的单一膜或层压膜。

15.根据权利要求10所述的透明导电性膜，其特征在于，

所述导电层包含氧化铟锡或氟掺杂氧化锡。

16.根据权利要求10所述的透明导电性膜，其特征在于，

所述透明基材的单面或双面进一步包含硬涂层。