[发明专利]低折射层涂敷用组合物及包含该组合物的透明导电性膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种低折射层涂敷用组合物及包含该组合物的透明导电性膜。

背景技术

触控面板根据位置检测方法，分为光学方式、超声波方式、静电容量方式及电阻膜方式等。电阻膜方式的触控面板的结构是，透明导电性膜和附着有透明导电体层的玻璃隔着间隔部相向配置，使电流在透明导电性膜流动，并测定附着有透明导电体层的玻璃中的电压的结构。另一方面，静电容量方式的触控面板的基本结构是，在基材上形成透明导电层，特征在于没有可动部分，并且，由于具有高耐久性、高透过率，因此，也适用于车载用途等。

适用于上述触控面板的静电容量方式的透明导电性膜包含导电层，并且，上述导电层经过图案化工序。在通常情况下，主要采用将感光剂涂敷于透明导电层的上部，并经过显像工序来蚀刻导电层来实现图案化的方式，目前，正在不断进行与如何在图案化工序中确保生产速度及生产效率等的透明导电性膜相关的研究。

发明内容

本发明要解决的技术问题

本发明的一实例提供包含硅氧烷化合物及光产酸剂的低折射用涂敷用组合物。

技术方案

在本发明的一实例中，提供包含硅氧烷化合物及光产酸剂的低折射层涂敷用组合物。

上述硅氧烷化合物可包含由化学式1形成的硅氧烷聚合物，

化学式1

(R₁)_n-Si-(O-R₂)_4-n，

上述R₁是碳数1至18的烷基、乙烯基、烯丙基、环氧基或丙烯酸基，上述R₂是具有碳数1至6的烷基或乙酰氧基，上述n是0＜n＜4的整数。

上述硅氧烷聚合物的分子量可以是约500至约50000。

相对于总100重量％，可包含约5重量％至约100重量％的上述硅氧烷化合物。

上述硅氧烷化合物可通过溶胶-凝胶反应形成。

上述光产酸剂可对约300nm至约400nm波长的紫外(UV)光照射具有活性。

上述光产酸剂可以是选自离子性光产酸剂、非离子性光产酸剂及高分子类光产酸剂中的某一种。

相对于总100重量％，可包含约1重量％至约30重量％的上述光产酸剂。

在本发明的另一实例中，提供包含利用上述低折射层涂敷用组合物而形成的低折射层的透明导电性膜。

上述透明导电性膜可以是透明基材、上述高折射层、低折射层及导电层的层压结构。

上述低折射层的折射率可以是约1.4至约1.5。

上述低折射层的厚度可以为约5nm至约100nm。

上述高折射层的厚度可以是约20nm至约150nm。

上述透明基材可以是包含选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)、聚乙烯醇(PVA)及它们的组合构成的组中的某一种的单一膜或层压膜。

上述导电层可包含氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)或氟掺杂氧化锡(Fluorine-doped Tin Oxide，FTO)。

上述透明基材的单面或双面还可包含硬涂层。

有益效果

使用上述低折射层涂敷用组合物，能够有效改善作为静电容量方式的透明导电性膜所需工序的透明导电层图案化工序。

通过改善的透明导电层的图案化工序，能够在短时间内简单且更加有效地制备透明导电性膜。

附图说明

图1简要表示本发明一实施例的透明导电性膜的截面。

图2简要表示本发明另一实施例的透明导电性膜的截面。

具体实施方式

以下，详细说明本发明的实例。但是，这仅仅作为例示来提示，不会因这些实例而限制本发明，本发明只根据发明要求保护范围所要保护的范畴来定义。

为了准确说明本发明，省略与说明无关的部分，在说明书全文中，对相同或类似的结构要素附加相同的附图文字。

附图中，为了明确表示多个层及区域，厚度有所放大。并且，在附图中，为了便于说明，将一部分层及区域的厚度放大表示。