[发明专利]成膜掩模的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及由薄板状的磁性金属构件支撑按薄膜图案利用激光加工出多个开口图案的树脂制膜的复合型的成膜掩模的制造方法，特别是涉及使多个开口图案的形成位置精度提高的成膜掩模的制造方法。

背景技术

在现有的成膜掩模的制造方法中，在金属板上形成具有多个贯通开口的第1抗蚀剂图案，经由上述第1抗蚀剂图案的贯通开口进行蚀刻处理而形成贯通上述金属板的多个开口图案，然后将上述第1抗蚀剂图案除去，在上述金属板上形成具有多个第2贯通开口的第2抗蚀剂图案，上述多个第2贯通开口使上述多个开口图案各自的周围的规定宽度的金属边缘部分别露出，经由上述第2抗蚀剂图案的第2贯通开口进行蚀刻处理，形成上述多个贯通开口各自的周围的掩模主体部和位于该掩模主体部的周围的、具有比掩模主体部的厚度大的厚度的周缘部，然后将上述第2抗蚀剂图案除去(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2001－237072号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，在这样的现有的成膜掩模的制造方法中，对金属板进行湿式蚀刻处理而形成贯通该金属板的多个开口图案，所以不能利用湿式蚀刻的各向同性精度良好地形成高精细的开口图案。特别是，在一边的长度为数十cm以上的大面积的例如有机EL显示面板用的成膜掩模的情况下，由于蚀刻不均的产生，不能均匀地形成掩模整个面的开口图案。

因此，申请人提出了如下复合型的成膜掩模：其是使树脂制成的膜和薄板状的磁性金属构件紧贴而成的，树脂制成的膜按在基板上成膜的薄膜图案形成有形状尺寸与该薄膜图案相同的开口图案，磁性金属构件形成有内涵开口图案的贯通孔。

上述复合型的成膜掩模是对厚度为10μm～30μm程度的薄树脂制膜利用激光加工出开口图案而形成的，具有如下优点：能精度良好地形成高精细的开口图案，并且如上所述的大面积的成膜掩模也能遍及掩模整个面均匀地形成开口图案。

在该情况下，为了通过对膜进行激光加工而形成开口图案，在开口图案贯通膜时，有可能由于激光L的照射能量的冲击，成膜掩模的包含激光加工部的其周边部分上浮，该部分的位置偏移。因此，在一边使载置成膜掩模的载物台和激光照射光学系统以一定间隔相对地分步移动一边形成多个开口图案的情况下，有可能各开口图案的形成位置偏移。

因此，本发明针对这样的问题，其目的在于提供使多个开口图案的形成位置精度提高的成膜掩模的制造方法。

用于解决问题的方案

为了达到上述目的，本发明为一种成膜掩模的制造方法，上述成膜掩模是使树脂制成的膜和薄板状的磁性金属构件紧贴而成的复合型的成膜掩模，上述树脂制成的膜与在基板上成膜的薄膜图案对应地形成有形状尺寸与该薄膜图案相同的开口图案，上述磁性金属构件形成有内涵上述开口图案的大小的贯通孔，上述成膜掩模的制造方法包含如下阶段：形成掩模用构件，上述掩模用构件是形成有上述贯通孔的上述磁性金属构件和形成上述开口图案前的树脂制膜紧贴而成的结构；对上述掩模用构件的上述贯通孔内的上述膜照射激光而形成具有一定形状且一定深度的标记；以及以上述标记为基准对预定的位置照射激光而形成贯通上述膜的上述开口图案。

发明效果

根据本发明，事先将成为开口图案的形成目标的标记以较浅的深度形成在膜上，所以上述标记不会由于激光加工的冲击而受到影响，能位置精度良好地形成。而且，即使在标记的位置由于激光加工的冲击而偏移的情况下，也能一边利用摄像装置检测出上述标记而校正标记的位置偏移一边进行开口图案的形成，所以能提高开口图案的形成位置精度。

附图说明

图1是表示在本发明的成膜掩模的制造方法中使用的激光加工装置的实施方式的主视图。

图2是表示利用本发明的方法所制造的成膜掩模的一构成例的图，(a)是俯视图，(b)是(a)的O－O线截面向视图。

图3是表示本发明的成膜掩模的制造方法的前工序的说明图。

图4是表示本发明的成膜掩模的制造方法的中间工序的说明图。

图5是表示本发明的成膜掩模的制造方法的后工序的说明图。

图6是表示利用本发明的方法所制造的成膜掩模的变形例。