[发明专利]用于光刻的传感器系统有效

专利信息
申请号: 201380059143.3 申请日: 2013-09-10
公开(公告)号: CN104823112B 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: H·科克;R·J·沃格德 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;张宁
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 检测器 传感器系统 配置传感器 噪声源 物理量 测量物理量 并行测量 并行检测 空间位置 地响应 共享 光刻 噪声 输出
【说明书】:

一种用于测量物理量的传感器系统,系统包括具有多个检测器以允许在不同空间位置处并行测量的并行检测设置,其中多个检测器共享噪声源,其中配置传感器系统以使得多个检测器每个输出作为物理量的函数的信号,以及其中配置传感器系统以使得至少一个检测器与一个或多个其他检测器相比不同地响应于源自共享噪声源的噪声。

与申请相关的交叉引用

本申请要求享有2012年10月17日提交的美国临时申请案号61/715,176的权益,并且该申请在此全文通过引用整体并入本文。

技术领域

发明涉及用于测量物理量的传感器系统、包括传感器系统的光刻设备,以及使用传感器系统将图案从图案化装置转移至衬底的目标部分上的方法。

背景技术

光刻设备是将期望图案施加至衬底上、通常至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以例如用于集成电路(ICs)的制造。在该情形中,备选地称作掩模或掩模版的图案化装置可以用于产生将要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以转移至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或数个裸片的一部分)之上。图案的转移通常是经由在衬底上提供的辐射敏感材料(光刻胶)层之上成像。通常,单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括其中通过一次性暴露整个图案至目标部分之上而照射每个目标部分的所谓步进机,以及其中通过沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案穿过辐射束而同时平行于或者反平行于该方向而扫描衬底的所谓扫描机。也可能通过将图案压印至衬底之上而将图案从图案化装置转移至衬底。

在光刻设备中,许多传感器系统用于测量所有种类的物理量。感兴趣的量的示例是距离/位置、时间、速度、加速度、力、透镜像差等。这些传感器系统的一些使用输出周期性变化的信号的检测器。该周期性变化的信号可以使用周期性结构、诸如光栅而获得。周期性变化的信号可以例如具有正弦形状。

发明内容

在不同空间位置处的多个测量的情形中,可以通过使用具有允许例如同时的、在不同空间位置处的并行测量的多个检测器的并行检测设置来减少测量时间。当使用该并行检测设置时,例如从生产观点和成本观点看到有利的是共享诸如功率或信号部件之类的相同部件,其中功率部件用于向检测器提供能量,而信号部件通常用于以直接或间接方式操纵信号。

然而,尽管并行检测设置改进了测量速度,但是其对于该传感器系统仍然具有维持良好的测量重复性或者当更严厉的要求可以需要该测量时甚至改进它的挑战。改进测量重复性的明显方式在于增加测量时间,但是在光刻设备中这可以由于产量要求而并非可行的选项。

需要提供例如一种用于测量物理量的传感器系统,其中传感器系统具有改进的测量重复性。

根据本发明的一个实施例,提供了一种用于测量物理量的传感器系统,该系统包括具有多个检测器以允许在不同空间位置处并行测量的并行检测设置,其中多个检测器共享至少一个噪声源,其中传感器系统被配置为使得多个检测器均输出根据物理量的信号,以及其中传感器系统被配置为使得至少一个检测器与其他检测器不同地响应于源自共享噪声源的噪声。

根据本发明的一个实施例,提供了一种用于沿至少两个方向测量物理量的传感器系统,该系统包括具有多个检测器以允许在不同空间位置处并行测量的并行检测设置,其中多个检测器共享至少一个噪声源,其中每个检测器被配置成以一次沿至少两个方向中的一个方向测量,其中传感器系统被配置成使得多个检测器均输出根据物理量的信号,以及其中传感器系统被配置成使得在并行测量期间至少一个检测器同时沿与其他检测器不同的方向测量。

根据本发明的一个实施例,提供了一种控制系统,包括如本文中描述的传感器系统、至少一个致动器、以及配置用于基于多个检测器的输出而向至少一个致动器提供驱动信号的控制单元。

根据本发明的一个实施例,提供了一种包括如本文中描述的传感器系统的光刻设备。

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