[发明专利]倾斜磁场线圈装置及磁共振成像装置有效

专利信息
申请号: 201380061471.7 申请日: 2013-12-18
公开(公告)号: CN104822319A 公开(公告)日: 2015-08-05
发明(设计)人: 中康弘;黑目明 申请(专利权)人: 株式会社日立医疗器械
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 倾斜 磁场 线圈 装置 磁共振 成像
【权利要求书】:

1.一种倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

具有:

主线圈装置,其在第一树脂中埋入产生倾斜磁场与泄漏磁场的多个主线圈并整形;以及

屏蔽线圈装置,其在第二树脂中埋入抑制上述泄漏磁场的多个屏蔽线圈并整形,

上述屏蔽线圈装置具备与上述主线圈装置对置并固定于上述主线圈装置的对置区域及从上述主线圈装置突出的突出区域,

在上述突出区域中的上述第二树脂中埋入绝缘性的加固材料。

2.根据权利要求1所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述主线圈装置与上述屏蔽线圈装置大致是圆盘形状,

上述主线圈装置与上述屏蔽线圈装置各自的互相对置的面彼此被粘接。

3.根据权利要求1所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述主线圈装置与上述屏蔽线圈装置大致是筒形状,

上述主线圈装置配置于上述屏蔽线圈装置的内侧。

4.根据权利要求3所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述屏蔽线圈装置大致是圆筒形状,

上述主线圈装置与上述屏蔽线圈装置的间隔在圆周方向上不同。

5.根据权利要求3所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

在上述对置区域,将在与假想圆筒曲面接触的位置具有用于设置线圈导体的表面的衬垫埋入上述第二树脂,该假想圆筒曲面以从上述加固材料的设置构成上述屏蔽线圈的上述线圈导体的面到上述屏蔽线圈装置的圆筒形状的中心轴的距离为半径。

6.根据权利要求5所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述加固材料与上述衬垫的圆周方向的宽度是10mm~30mm的范围内,

上述加固材料在上述突出区域的轴向长度是50mm~150mm的范围内,

相邻的上述衬垫彼此的圆周方向的间隔是50mm~150mm的范围内。

7.根据权利要求3所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述主线圈与上述屏蔽线圈是无架线圈。

8.根据权利要求4所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

在上述主线圈装置与上述屏蔽线圈装置的间隔不同的、宽的第一范围与窄的第二范围中,上述第二范围中的上述加固材料的分布密度比上述第一范围中的上述加固材料的分布密度高。

9.根据权利要求3所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述加固材料在上述屏蔽线圈装置的圆周方向上配置多个,

在互相邻接的上述加固材料之间填充上述第二树脂。

10.根据权利要求1所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述加固材料的表面沿上述屏蔽线圈装置的侧面。

11.根据权利要求1所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述加固材料相对于上述屏蔽线圈配置于上述主线圈装置侧。

12.根据权利要求1所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

在上述加固材料中设有槽,

在上述槽中设置构成上述屏蔽线圈的线圈导体。

13.根据权利要求1所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述加固材料具有设于相邻的上述线圈导体之间的第一加固材料。

14.根据权利要求1所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

上述加固材料向上述对置区域延伸。

15.根据权利要求1所述的倾斜磁场线圈装置,其特征在于,

在上述屏蔽线圈装置的筒形状的轴向位置或圆盘形状的径向位置,上述加固材料的中央位置与上述主线圈装置的端面的位置大致一致。

16.一种磁共振成像装置,其特征在于,

具有权利要求1至权利要求15任一项所述的倾斜磁场线圈装置以及在时间上且空间上产生均匀的静磁场的静磁场磁铁装置,

在摄像空间中,上述倾斜磁场与上述静磁场重合。

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