[发明专利]倾斜磁场线圈装置及磁共振成像装置

说明书

技术领域

本发明涉及产生磁场强度倾斜的倾斜磁场的倾斜磁场线圈装置及具有该倾斜磁场线圈装置的磁共振成像装置(以下，称为MRI(Magnetic Resonance Imaging)装置)。

背景技术

MRI装置主要包括在摄像空间产生静磁场的静磁场磁铁、用于产生来自被检测者的核磁共振(NMR：Nuclear Magnetic Resonance)信号的RF线圈、为了对信号给予位置信息而产生倾斜磁场的倾斜磁场线圈装置。并且，在倾斜磁场线圈装置中，产生倾斜磁场的主线圈装置与配置于主线圈装置的外侧且抑制其产生泄漏磁场的屏蔽线圈装置一体化。主线圈装置与屏蔽线圈装置呈筒形状，屏蔽线圈装置的轴长为了得到充分遮蔽从主线圈装置的泄漏磁场的充分的电磁屏蔽效果，比主线圈装置的轴长还长。因此，屏蔽线圈装置从主线圈装置的端部突出。另一方面，提出了以不会给被检测者带来压迫感的方式在被检测者的肩宽方向得到充分的空间的方案(例如参照专利文献1等)。在专利文献1中，倾斜磁场线圈的外周面沿圆筒形状，但就内周面而言，被检测者的肩宽的方向比其他方向宽。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-072461号公报

发明内容

发明所要解决的课题

以往，倾斜磁场线圈装置呈圆筒形状，为了扩大被检测者进入的空间，该圆筒形成得薄。因此，从主线圈装置的端部突出的部位的屏蔽线圈装置形成得更薄。由此，刚性下降，MRI装置工作时的屏蔽线圈装置的振动振幅增大，有可能导致在主线圈装置与从其端部突出的屏蔽线圈装置的接合界面的剥离等损伤。

另外，如专利文献1那样，倾斜磁场线圈装置的外周面为圆筒状而内周面在被检测者的肩宽的方向宽时，倾斜磁场线圈装置在圆周方向局部形成得更薄。即使如此，也有可能局部地产生在上述接合界面的剥离等损伤。

因此，本发明所要解决的课题在于提供即使形成得薄也难以损伤的倾斜磁场线圈装置及搭载该倾斜磁场线圈装置的MRI装置。

用于解决课题的方法

为了解决上述课题，本发明是一种倾斜磁场线圈装置，其具有：主线圈装置，其在第一树脂中埋入产生倾斜磁场与泄漏磁场的多个主线圈并整形；以及屏蔽线圈装置，其在第二树脂中埋入抑制上述泄漏磁场的多个屏蔽线圈并整形，

上述屏蔽线圈装置具备与上述主线圈装置对置并固定于上述主线圈装置的对置区域及从上述主线圈装置突出的突出区域，

在上述突出区域中的上述第二树脂中埋入绝缘性的加固材料。

另外，本发明是MRI装置，其具有在时间上且空间上产生均匀的静磁场的静磁场磁铁装置，在摄像空间中，上述倾斜磁场与上述静磁场重合。

发明效果

根据本发明，能够提供即使形成得薄也难以损伤的倾斜磁场线圈装置及搭载该倾斜磁场线圈装置的MRI装置。另外，上述以外的课题、结构及效果通过以下的实施方式的说明变得明确。

附图说明

图1是本发明的第一实施方式的磁共振成像装置(MRI装置：水平磁场型)的纵剖视图。

图2是透视外装罩并从z轴方向观察本发明的第一实施方式的MRI装置(水平磁场型)的侧视图。

图3是放大本发明的第一实施方式的MRI装置的纵剖视图中的、倾斜磁场线圈装置的端部与其周围的放大图。

图4A是加工材料的立体图。

图4B是设于本发明的第一实施方式的倾斜磁场线圈装置的屏蔽线圈装置的制造途中的立体图(其一)。

图5是设于本发明的第一实施方式的倾斜磁场线圈装置的屏蔽线圈装置的制造途中的立体图(其二)。

图6是设于本发明的第一实施方式的倾斜磁场线圈装置的屏蔽线圈装置的制造途中的立体图(其三)。

图7A是设于本发明的第二实施方式的倾斜磁场线圈装置的加固材料的立体图。

图7B是放大本发明的第二实施方式的倾斜磁场线圈装置的纵剖视图的、其端部与其周边的放大图。

图8是放大本发明的第三实施方式的倾斜磁场线圈装置的纵剖视图的、其端部与其周边的放大图。

图9是透视外装罩并从z轴方向观察本发明的第四实施方式的MRI装置(水平磁场型)的侧视图。

图10是本发明的第五实施方式的MRI装置(垂直磁场型)的纵剖视图。

具体实施方式