[发明专利]还原剂喷射控制系统

权利要求书

1.一种废气系统，其包含：

多个废气处理装置，其被布置在并联的流动路径中；

多个喷嘴，其用于将废气处理流体投入到位于并联的流动路径中的废气流中；

加热装置，其被设置在每个并联的流动路径中；以及

控制器，其用于控制多个喷嘴中的每一个并且控制每个加热装置，

其中，控制器基于通过每个并联的流动路径的废气流的废气流率主动控制由多个喷嘴中的每一个投入到并联的流动路径中的废气处理流体的量；并且控制器基于每个并联的流动路径中的废气流的温度主动控制每个加热装置的操作，其中，控制器主动控制加热装置，以改变流过加热装置的废气流的温度，从而控制通过并联的流动路径的废气流的质量流。

2.根据权利要求1所述的废气系统，其中，控制通过并联的流动路径的废气流的质量流包括保持在每个并联的流动路径中的相等的废气的质量流率。

3.根据权利要求1所述的废气系统，其中，废气处理装置是颗粒过滤器，并且控制器控制每个加热装置，以同时再生每个颗粒过滤器。

4.根据权利要求3所述的废气系统，其中，如果位于其中一个并联的流动路径中的颗粒过滤器在其他颗粒过滤器再生之前已再生，则控制器减少与该颗粒过滤器相对应的加热装置的操作，以降低该并联的流动路径中的废气流的温度。

5.根据权利要求1所述的废气系统，其中，每个废气处理装置都是氧化催化剂，并且控制器基于在每个并联的流动路径中的废气流的温度主动控制投入到并联的流动路径中的废气处理流体的量，以操控每个并联的流动路径中的废气流的质量流率。

6.根据权利要求1所述的废气系统，其中，废气处理装置是氧化催化剂或选择性还原催化剂，并且控制器基于进入每个并联的流动路径的废气的量主动控制与每个并联的流动路径相关的多个喷嘴。

7.一种废气系统，其包含：

废气流动路径，其被分成多个支路；

废气处理装置，其被设置在多个支路的每一个中；

加热装置，其位于每个支路中，以及

控制器，其用于基于每个支路中的废气流的温度控制每个加热装置，加热装置操控通过支路中的每一个的废气流率，以保持通过每个支路的相等的废气的质量流率。

8.根据权利要求7所述的废气系统，其中，每个废气处理装置都是颗粒过滤器。

9.根据权利要求8所述的废气系统，其中，在使用加热装置进行的颗粒过滤器的再生期间，控制器监控各支路中的温度。

10.根据权利要求9所述的废气系统，其中，同时再生颗粒过滤器。

11.根据权利要求10所述的废气系统，其中，如果一个颗粒过滤器在其余颗粒过滤器再生之前已被再生，则控制器控制与该颗粒过滤器相对应的加热装置，以减少加热装置的操作。

12.一种废气系统，其包含：

多个废气处理装置，其在废气通道中以阵列形式布置；

多个喷嘴，其被置于废气处理装置的上游，并且用于将废气处理流体投入到废气通道中；以及

控制器，其用于基于穿过每个废气处理装置的废气流的流率控制每个喷嘴的致动，

其中，与接收较大废气流率的废气处理装置相关的喷嘴被致动为，比与接收较小废气流率的废气处理装置相关的喷嘴投入更多的废气处理流体的量到废气通道中。

13.根据权利要求12所述的废气系统，其中，废气处理装置是氧化催化剂或还原催化剂。

14.根据权利要求12所述的废气系统，其中，废气处理装置是包括颗粒过滤器的氧化催化剂。