[发明专利]半导体激光器装置在审

专利信息
申请号: 201380063301.2 申请日: 2013-10-01
公开(公告)号: CN104838550A 公开(公告)日: 2015-08-12
发明(设计)人: 森田大嗣;桂智毅;今野进;藤川周一;西田聪;熊本健二;宫本直树;黑川裕章 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01S5/022 分类号: H01S5/022;H01S5/14;H01S5/40;G02B27/10
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体激光器 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体激光器装置,其具有:

半导体激光器,该半导体激光器具有半导体激光条、光束发散角度校正光学系统、以及光束旋转光学系统,其中,该半导体激光条具有用于射出多条光束的多个发光点,该光束发散角度校正光学系统对从所述多个发光点射出的所述多条光束各自的发散角度进行校正,该光束旋转光学系统使由所述光束发散角度校正光学系统校正发散角度后的所述多条光束各自相对于光轴旋转;

波长色散光学元件,其配置于经由所述光束旋转光学系统射出的所述多条光束的聚光位置处,具有波长色散功能;以及

部分反射镜,其配置于由所述波长色散光学元件反射而以同轴的方式叠加的所述多条光束的光路上,

在该半导体激光器装置中,

所述光束发散角度校正光学系统相对于所述多个发光点的在发散角度校正方向上的相对位置,按照所述多个发光点的排列顺序依次变化。

2.根据权利要求1所述的半导体激光器装置,其中,

所述多个发光点在所述半导体激光条上以等间距排列,

所述光束发散角度校正光学系统相对于彼此相邻的2个发光点的在发散角度校正方向上的相对位置变化量的差异分别设定为固定值。

3.根据权利要求1或2所述的半导体激光器装置,其中,

所述光束发散角度校正光学系统由柱面透镜构成,在与从所述多个发光点射出的各光束的光轴垂直的面内,相对于所述多个发光点中的每一个相对倾斜地设置。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的半导体激光器装置,其中,

所述半导体激光器配置为,射出的所述多条光束相对于与由慢轴方向即X轴和快轴方向即Y轴所规定的XY平面垂直的Z轴倾斜,

关于所述光束发散角度校正光学系统,以使从位于所述半导体激光器的中心的发光点射出的光束通过所述光束旋转光学系统后相对于所述Z轴平行地行进的方式,对所述Y轴方向的位置进行调整。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的半导体激光器装置,其中,

具有多个所述半导体激光器。

6.根据权利要求5所述的半导体激光器装置,其中,

以从所述多个半导体激光器分别射出的光束汇聚于1点,形成光束叠加点的方式,分别配置所述多个半导体激光器。

7.根据权利要求5或6所述的半导体激光器装置,其中,

还具有反射光学元件,该反射光学元件将从所述半导体激光器射出的光束向所述波长色散光学元件的位置方向反射,

以从所述多个半导体激光器分别射出的光束汇聚于1点,形成光束叠加点的方式,配置所述多个半导体激光器的每一个、以及所述反射光学元件。

8.根据权利要求6或7所述的半导体激光器装置,其中,

还具有:第1透镜,其焦距是第1焦距;以及第2透镜,其焦距是第2焦距,

所述第1透镜配置于与所述光束叠加点相距所述第1焦距的位置处,

所述第2透镜配置于与所述第1透镜的位置相距相当于所述第1焦距及所述第2焦距之和的距离的位置处。

9.根据权利要求6或7所述的半导体激光器装置,其中,

还具有:第1透镜,其焦距是第1焦距;以及第2透镜,其焦距是第2焦距,

所述第1透镜配置于与所述光束叠加点相距所述第1焦距的位置处,

所述第2透镜配置于与所述第1透镜的位置相距与相当于所述第1焦距及所述第2焦距之和的距离相比更短、或更长的位置处,

该半导体激光器装置还具有在所述波长色散光学元件和所述部分反射镜之间配置的所述第3透镜,或者将所述部分反射镜的镜面设置为凹面形状。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380063301.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top