[发明专利]制备用于泡罩包装的阻隔膜的方法

权利要求书

1.用于制备阻隔膜的方法，所述方法包括以下步骤：

（i）提供基材；

（ii）在单个涂布步骤中将聚合物胶乳施加到所述基材上以在所述基材上形成所述聚合物的单层；

（iii）干燥所述单层；

其特征在于所述单层具有至少20 g/m²的所述聚合物的干涂层重量（DCW），并在为至少所述聚合物胶乳的成膜温度（Tf）的干燥温度（Td）下，在根据下式的相对湿度（RH）下干燥所述单层：

RH=15+1.25* DCW。

2.根据权利要求1的方法，其中所述聚合物胶乳是聚偏二氯乙烯共聚物（PVDC）胶乳。

3.根据权利要求2的方法，其中所述单层含有至少40 g/m²的PVDC 。

4.根据前述权利要求任一项的方法，其中所述RH为至少65％。

5.根据前述权利要求任一项的方法，其中所述基材由聚氯乙烯（PVC）、聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚丙烯（PP）、聚乙烯（PE）或环烯烃共聚物（COC）制成。

6.根据前述权利要求任一项的方法，其中在施加所述聚合物胶乳之前将底漆提供到所述基材上??。

7.用于制备阻隔膜的方法，所述方法包括以下步骤：

（i）提供基材；

（ii）在多个涂布步骤中将聚合物胶乳施加到所述基材上以在所述基材上形成所述聚合物的多个层；

（iii）在每个涂布步骤之后干燥所施加的聚合物层；

其特征在于，在至少一个涂布步骤中，施加具有至少20 g/m²的所述聚合物的干涂层重量（DCW）的聚合物的单层，并且其中在为至少所述聚合物胶乳的成膜温度（Tf）的干燥温度（Td）下，在根据下式的相对湿度（RH）下干燥所述单层：

RH=15+1.25* DCW。

8.根据权利要求7的方法，其中所有涂布步骤中的所述聚合物胶乳是聚偏二氯乙烯共聚物（PVDC）胶乳。

9.根据权利要求7或8任一项的方法，其中所述多个涂布和干燥步骤在所述基材上产生具有至少60 g/m²的聚合物的干涂层重量的涂层。

10.根据前述权利要求任一项的方法，其中所获得的阻隔膜具有根据ASTM F 1249测得的小于0.80 g/m².d.b的水蒸气透过率（WVTR）。