[发明专利]磁记录介质用铝基板有效
| 申请号： | 201380068291.1 | 申请日： | 2013-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN104885155B | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 铃木哲雄;藤原直也;平野贵之 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | G11B5/73 | 分类号： | G11B5/73;G11B5/84 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 高旭轶;刘力 |
| 地址： | 日本兵库*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 记录 介质 用铝基板 | ||
【权利要求书】：
1.磁记录介质用铝基板，其为成膜有厚度6.0μm以上的SiO2膜的铝基板，其特征在于，
所述SiO2膜是将所述铝基板加热至150℃~370℃的状态下，利用气相成膜法而成膜后冷却至室温并处于被压缩状态的SiO2膜。
2.根据权利要求1所述的铝基板，其中，所述气相成膜法为等离子体CVD法。
3.根据权利要求1或2所述的磁记录介质用铝基板，其中，所述SiO2膜的厚度为15.0μm以下。
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