[发明专利]溶胶-凝胶类型的分子印迹聚合物和其作为去屑剂的用途在审
申请号: | 201380068333.1 | 申请日: | 2013-12-20 |
公开(公告)号: | CN104870525A | 公开(公告)日: | 2015-08-26 |
发明(设计)人: | A.格雷亚夫斯;C.里博;F.曼弗雷;K.豪普特;J.B.谢森贝 | 申请(专利权)人: | 莱雅公司 |
主分类号: | C08G77/26 | 分类号: | C08G77/26;A61Q5/00;A61K8/898;C08G77/32 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黄念;彭昶 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 溶胶 凝胶 类型 分子 印迹 聚合物 作为 去屑剂 用途 | ||
1.用于制备分子印迹聚合物的方法,其包括聚合包含如下物质的混合物的第一阶段:
i) 一种或多种硅烷;
ii) 一种或多种选自原硅酸四(C1-C4)烷基酯的交联剂;和
iii) 水;
iv) 一种或多种致孔溶剂;
v) 一种或多种C14-C20脂肪酸;
然后除去存在于第一阶段结束时获得的聚合物中的C14-C20脂肪酸的第二阶段,
所述硅烷对应于下式(I):
R1Si(OR2)z(R3)x (I)
其中:
· R1为被选自如下的基团取代的饱和或不饱和的、直链或支链的和环状或非环C1-C6烃链:
- 胺NH2或NHR基团, 其中R = C1-C4烷基,
- 被氨基或被C1-C4氨基烷基取代的芳基或芳基氧基,
对于R1而言可以在其链中插入杂原子(O, S, NH)或羰基(CO)基团,R1直接通过碳原子键合至硅原子 ,
· R2和R3, 相同或不同, 代表包含1至6个碳原子的直链或支链烷基,
· z 代表1至3的整数, 和
· x 代表0至2的整数,
其中z+x = 3。
2.前述权利要求要求保护的方法,其特征在于,对于硅烷(I):
R1为被胺NH2基团取代的饱和直链C1-C6烃链,
R2 代表包含1至4个碳原子的烷基,
R3 代表包含1至4个碳原子的烷基。
3.前述权利要求任一项要求保护的方法,其特征在于,对于硅烷(I),z等于3。
4.前述权利要求之一要求保护的方法,其特征在于,式(I)的硅烷选自3-氨基丙基三乙氧基硅烷 (APTES), 2-氨基乙基三乙氧基硅烷 (AETES), 3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷, N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷, 3-(间氨基苯氧基)丙基三甲氧基硅烷, 对氨基苯基三甲氧基硅烷或N-(2-氨基乙基氨基甲基)苯乙基三甲氧基硅烷。
5.前述权利要求之一要求保护的方法,其特征在于,所述硅烷 (I)为3-氨基丙基三乙氧基硅烷 (APTES)。
6.前述权利要求之一要求保护的方法,其特征在于,原硅酸四(C1-C4)烷基酯为四乙氧基硅烷 (TEOS)。
7.前述权利要求之一要求保护的方法,其特征在于,所述C14-C20脂肪酸为油酸。
8.前述权利要求之一要求保护的方法,其特征在于,在酸催化剂或碱性催化剂存在下进行。
9.前述权利要求之一要求保护的方法,其特征在于,所述C14-C20脂肪酸, 硅烷(I)和原硅酸四(C1-C4)烷基酯根据C14-C20脂肪酸/硅烷(I)/原硅酸四(C1-C4)烷基酯摩尔比1/[1至20]/[1至40],优选1/[1至10]/[1至30]和优先1/[1至5]/[1至5]使用。
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