[发明专利]用于光刻设备的投影系统、反射镜和辐射源

权利要求书

1.一种投影系统，所述投影系统被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上，所述投影系统包括：

至少一个反射镜，所述至少一个反射镜包括至少一个致动器，所述至少一个致动器能够操作以定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状；并且为所述反射镜提供主动衰减；

至少一个控制器，所述至少一个控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号；

其中第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。

2.如权利要求1所述的投影系统，所述投影系统能够操作，使得依赖于所述控制信号的频率将所述致动器控制信号去耦为第一致动器控制信号和第二致动器控制信号，所述第一致动器控制信号用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器，所述第二致动器控制信号用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。

3.如权利要求2所述的投影系统，所述投影系统能够操作，使得第一去耦矩阵和第二去耦矩阵被分别用于获得所述第一致动器控制信号和所述第二致动器控制信号。

4.如权利要求3所述的投影系统，包括用于对所述第一去耦矩阵的输出进行过滤的低通滤波器和用于对所述第二去耦矩阵的输出进行过滤的高通滤波器。

5.如前述权利要求中任一项所述的投影系统，其中所述第一坐标系为泽尔尼克坐标系。

6.如前述权利要求中任一项所述的投影系统，其中所述第二坐标系为模态坐标系。

7.如前述权利要求中任一项所述的投影系统，其中所述反射镜包括用于提供反馈信号的至少一个传感器，所述反馈信号用于为所述第一致动器控制信号和所述第二致动器控制信号提供负反馈。

8.如权利要求7所述的投影系统，其中一个或多个第一控制器用于产生所述第一致动器控制信号，并且一个或多个第二控制器用于产生所述第二致动器控制信号；并且相同的传感器被用于根据所述第一坐标系产生被所述第一控制器使用的第一反馈信号，并且用于根据所述第二坐标系产生被所述第二控制器使用的第二反馈信号。

9.如前述权利要求中任一项所述的投影系统，其中所述反射镜被配置为具有反射表面，所述反射表面在靠近反射镜的外周处比反射镜中心处具有更陡的轮廓。

10.如前述权利要求中任一项所述的投影系统，其中所述反射镜的形状被选定为用于特定的像差图案，以便最大化由所述致动器施加的修正变形的效果。

11.如前述权利要求中任一项所述的投影系统，其中除了用于改变反射镜的位置的一个或多个定位致动器，还提供用于配置所述反射镜的形状的单一的变形致动器，所述单一的变形致动器在反射镜的背面的中心区域能够操作，其中与其边缘处相比，所述反射镜在接近中心处具有更厚的轮廓。

12.如权利要求11所述的投影系统，其中所述反射镜的形状被配置为确保当使用所述单一的变形致动器时变形与所期望的变形匹配。

13.如权利要求11或12所述的投影系统，其中垂直于反射镜表面的变形致动器通过平行于反射镜表面的两个另外的致动器支撑，每个另外的致动器包括传感器和控制器。

14.如权利要求13所述的投影系统，其中所述变形致动器包括传感器和控制器。

15.如前述权利要求中任一项所述的投影系统，其中所述致动器包括用于与所述反射镜直接相互作用的致动针。

16.如权利要求15所述的投影系统，其中所述致动针经由在反射镜材料中的凹口与所述反射镜相互作用。

17.如权利要求15或16所述的投影系统，其中所述致动针仅能够在一个维度上操作。

18.如前述权利要求中任一项所述的投影系统，包括多个所述反射镜，其中每个反射镜具有多个致动器，每个致动器能够操作以定位所述反射镜、配置所述反射镜的形状以及为所述反射镜提供主动衰减。