[发明专利]DLC被覆膜及被覆气门挺杆有效
申请号: | 201380074991.1 | 申请日: | 2013-03-22 |
公开(公告)号: | CN105051249B | 公开(公告)日: | 2019-06-18 |
发明(设计)人: | 久保田行雄;石井真一 | 申请(专利权)人: | 日锻汽门株式会社 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | dlc 被覆 气门 | ||
本发明提供一种可以同时确保CVD(化学气相生长)成膜方法的成膜速度和溅射成膜方法的耐久性的DLC(类金刚石碳)被覆膜及被覆气门挺杆。DLC被覆膜由沉积形成于基材表面的中间层(3)、沉积形成于该中间层(3)上的DLC层(4)构成,通过能够进行表面硬化的金属碳化物或金属来形成所述中间层(3),且在混入烃气的非活性气体导入下,通过添加与所述中间层(3)共同的金属元素来形成所述DLC层(4),由此,可对中间层(3)和DLC层(4)进行连续的采用溅射处理的成膜,另外,可进行Me‑DLC(金属添加DLC)的DLC层(4)的H(氢)含量调节。
技术领域
本发明涉及被覆于发动机零件等的滑动面的DLC(类金刚石碳)被覆膜及被覆气门挺杆(バルブリフタ)。
背景技术
对于被覆于发动机构成零件等的滑动面的DLC的被覆膜而言,与需要成膜处理时间的采用PVD(物理气相生长)的溅射成膜方法相比,出于成膜速度、表面的平滑性的考虑,多使用CVD(化学气相生长)成膜方法,谋求量产低成本化。
另外,如专利文献1记载的滑动部件的DLC被覆膜那样,通过在DLC中添加Cr(铬)、Mo(钼)等金属,形成可低摩擦化的Me-DLC(金属添加DLC)层,谋求低摩擦化。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特许第4320605号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而,通过CVD成膜方法得到的DLC层因与成膜速度对应、大量含有H(氢)而较软,所以存在与溅射成膜方法对比,即使通过Me-DLC层也不能避免耐久性上的不利这种问题。
本发明在于,提供一种可以同时确保CVD成膜方法的成膜速度和溅射成膜方法的耐久性的DLC被覆膜及被覆气门挺杆。
用于解决课题的方案
权利要求1的发明的特征在于,在包含沉积形成于基材表面的中间层、和沉积形成于该中间层上的DLC层的DLC被覆膜中,通过能够进行表面硬化(表面硬装)的金属碳化物或金属来形成所述中间层,且在混入烃气的非活性气体导入下,通过添加与所述中间层共同(共通)的金属元素,形成所述DLC层而成。
权利要求2的发明的特征在于,在权利要求1的发明中,通过所述金属碳化物或金属的溅射处理,将所述中间层成膜,且通过所述中间层的溅射处理的继续控制,进行所述DLC层的所述金属元素的添加。
权利要求3的发明的特征在于,在权利要求1或2的发明中,所述共同的金属元素采用W(钨)。
权利要求4的发明的特征在于,在权利要求1~3的发明中,所述DLC层通过与距所述中间层的成膜厚度对应地慢慢降低所述金属元素的渐减添加控制而形成。
权利要求5的发明的特征在于,在权利要求3或4的发明中,所述DLC层在表面的金属元素的添加量为0.5~20at%(原子百分率)的范围内成膜。
权利要求6的发明的特征在于,在权利要求3~5的任一项的发明中,所述DLC层在H含量为8~30at%的范围内成膜。
权利要求7的发明的特征在于,在气门挺杆中,具备形成有权利要求1~6中任一项的DLC被覆膜的凸轮接触部而成。
发明效果
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的