[发明专利]光固化组合物和包含它的封装设备在审
申请号: | 201380076226.3 | 申请日: | 2013-10-31 |
公开(公告)号: | CN105164209A | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 李昌珉;吴世一;高盛慜;权智慧;南成龙;李连洙;李知娟;崔承集;河京珍 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | C08L101/00 | 分类号: | C08L101/00;C09K11/06;H01L51/50 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光固化 组合 包含 封装 设备 | ||
1.一种光固化组合物,所述光固化组合物包含:(A)光固化单体;(B)发光材料;和(C)引发剂,
其中所述发光材料在300nm至480nm的波长下照射时具有约400nm至约500nm的最大发射波长。
2.根据权利要求1所述的光固化组合物,其中所述发光材料包含(B1)具有C.I荧光增白剂1至393的C.I.编号(颜料索引编号)的有机荧光染料、(B2)取代或未取代的C10至C30芳香烃和(B3)取代或未取代的C6至C30杂芳烃中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的光固化组合物,其中所述芳香烃(B2)由通式2表示:
(其中在通式2中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10各自独立地为氢、C1至C10烷基、C6至C10芳基、胺基、卤素、氰基、硝基、通式3、通式4、通式5或含有羟基的C1至C10烷基:
(其中在通式3至5中,*为与通式2中的芳香碳的结合位点,
R11为氢或C1至C5烷基,
R12为单键、C1至C10亚烷基或C6至C20亚芳基,
R13、R14和R15相同或不同,且各自独立地为C1至C10亚烷基或C6至C20亚芳基,X1和X2相同或不同,且各自独立地为O、S或NR(R为氢或C1至C5烷基),且
m为1至6的整数),且
n为1至6的整数)。
4.根据权利要求3所述的光固化组合物,其中所述芳香烃(B2)由通式2-1至2-6中的任何一个表示:
5.根据权利要求1所述的光固化组合物,其中,以固含量计,所述发光材料(B)在所述组合物中的含量为约0.01wt%至约5wt%。
6.根据权利要求1所述的光固化组合物,其中所述光固化单体(A)包含含有C1至C20烷基的(甲基)丙烯酸酯、C2至C20二醇的二(甲基)丙烯酸酯、C3至C20三醇的三(甲基)丙烯酸酯和C4至C20四醇的四(甲基)丙烯酸酯中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的光固化组合物,以固含量计,所述组合物包含约85wt%至约99.9wt%的光固化单体(A)、约0.01wt%至约5wt%的发光材料(B)和约0.01wt%至约10wt%的引发剂(C)。
8.根据权利要求1所述的光固化组合物,其中所述光固化组合物被用于鉴别有机发光器件的有机保护层的图案缺陷。
9.一种封装设备,包括:所述设备的元件;和阻挡堆栈,所述阻挡堆栈在所述设备的元件上形成并且包括无机阻挡层和有机阻挡层,
其中所述有机阻挡层包含根据权利要求1至8中任一项所述的光固化组合物的固化产物。
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