[发明专利]光固化组合物和包含它的封装设备在审

专利信息
申请号: 201380076226.3 申请日: 2013-10-31
公开(公告)号: CN105164209A 公开(公告)日: 2015-12-16
发明(设计)人: 李昌珉;吴世一;高盛慜;权智慧;南成龙;李连洙;李知娟;崔承集;河京珍 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: C08L101/00 分类号: C08L101/00;C09K11/06;H01L51/50
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 康泉;王珍仙
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光固化 组合 包含 封装 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及光固化组合物和包含该光固化组合物的封装设备。

背景技术

有机发光二极管(OLED)具有在其中阳极和阴极之间插入功能性有机层的结构,并且通过注入阴极的空穴和注入阳极的电子的复合产生高能量激子。所产生的激子跃迁到基态,从而在特定波长带内发光。

然而,有机发光二极管存在性能和寿命劣化的问题,这是由于来自外面的水分或氧气或者由内部或外部产生的脱气(outgas)造成的有机材料和/或电极材料的氧化而引起的。为了克服这样的问题,已经提出通过由封装组合物形成的有机保护层封装有机发光二极管的一些方法。

这样的封装过程可包括,例如,通过在真空中沉积封装组合物而形成有机保护层。这里,封装组合物是液体,因此在沉积期间可能向下流动到有机发光二极管以外的不希望的位置,从而得到有缺陷的有机发光二极管。尽管这样的缺陷肉眼即可鉴别,但遗憾的是,这样的目检可靠性差而且需要不必要的工作。

发明内容

【技术问题】

本发明的一个方面是提供允许容易地鉴别组合物固化后是否以期望的图案形成的光固化组合物。

本发明的另一方面是提供能够实现具有高光固化率且可以避免由于固化后收缩应力引起的移位(shift)的层的光固化组合物。

本发明的又一个方面是提供能够实现固化后表现出对无机阻挡层高粘附性以及低脱气的层的光固化组合物。

本发明的再一个方面是提供包含以上阐述的光固化组合物的封装设备。

【技术方案】

根据本发明的一方面,光固化组合物包括(A)光固化单体、(B)发光材料和(C)引发剂,其中发光材料在300nm至480nm的波长下照射时具有约400nm至约500nm的最大发射波长。

根据本发明的另一方面,封装设备包括设备的元件和阻挡堆栈,所述阻挡堆栈在设备的元件上形成,并且包括无机阻挡层和有机阻挡层,其中有机阻挡层可由以上阐述的光固化组合物的固化产物形成。

【有益效果】

本发明提供了一种光固化组合物,该光固化组合物能够实现具有非常低的固化后脱气和对无机阻挡层的高粘附性,从而可以防止器件的性能劣化并且延长器件用于封装该器件时的寿命的层。此外,本发明提供了包括不仅在可见光下显色而且在UV照射下发荧光的材料的光固化组合物,因此允许容易地鉴别沉积或涂布的阻挡层能否适合地形成,并且在提高生产率的同时减少缺陷率。

附图说明

图1是根据本发明的一个实施方式的封装设备的截面图。

图2是根据本发明的另一个实施方式的封装设备的截面图。

图3至6是实施例1至4的光固化组合物的固化产物的发光光谱(其中横轴为波长(单位:nm),纵轴为强度(单位:A.U.(任意单位))。

具体实施方式

【最佳方式】

除非另有说明,如本文所使用的术语“取代的”的意思是在本发明的官能团中至少一个氢原子被以下基团取代:卤素原子(F、Cl、Br或I)、羟基、硝基、氰基、亚氨基(=NH、=NR(R:C1至C10烷基))、氨基(-NH2、-NH(R')、-N(R)(R'),其中R'、R和R'各自独立地为C1至C10烷基)、脒基、肼基或腙基、羧基、取代或未取代的C1至C20烷基、取代或未取代的C6至C30芳基、取代或未取代的C3至C30环烷基、取代或未取代的C3至C30杂芳基或者取代或未取代的C2至C30杂环烷基。此外,如本文所使用的术语“(甲基)丙烯酸酯”可以是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。

根据本发明的光固化组合物可包含(A)光固化单体、(B)发光材料和(C)引发剂。

(A)光固化单体

光固化单体可包括在UV照射下不发光,或者在UV照射下具有小于400nm的最大发射波长(λmax)的单体。光固化单体可包括下面将要描述的单体,所述单体即使在固化后也不影响发光材料的发光。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380076226.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top