[发明专利]流体压力缸在审
申请号: | 201380076366.0 | 申请日: | 2013-11-13 |
公开(公告)号: | CN105190054A | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 野村健二 | 申请(专利权)人: | SMC株式会社 |
主分类号: | F15B15/14 | 分类号: | F15B15/14 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;张丽颖 |
地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 压力 | ||
1.一种流体压力缸(10,100),包括:圆筒形的缸筒(12,102),所述缸筒(12,102)内部具有缸室(20);一对盖构件(14,16,108,110),所述盖构件(14,16,108,110)安装在所述缸筒(12,102)的两个端部上;和活塞(18),所述活塞(18)沿着所述缸室(20)可位移地配置;其特征在于,
用于相对于所述盖构件(14,16,108,110)径向地和同轴地保持所述缸筒(12,102)的定位机构可拆卸地配置在所述缸筒(12,102)和所述盖构件(14,16,108,110)之间。
2.如权利要求1所述的流体压力缸,其特征在于,所述定位机构包括定位构件(26,28,104,106),所述定位构件(26,28,104,106)配置在所述缸筒(12,102)的所述两个端部上的内周侧或外周侧。
3.如权利要求2所述的流体压力缸,其特征在于,凹槽(24a,24b,120a,120b)形成在所述缸筒(12,102)的所述两个端部,所述凹槽(24a,24b,120a,120b)径向地凹陷并且所述定位构件(26,28,104,106)接合在所述凹槽(24a,24b,120a,120b)中。
4.如权利要求1所述的流体压力缸,其特征在于,各个密封构件(22a,22b,122)配置在所述缸筒(12,102)的所述两个端部上,所述密封构件(22a,22b,122)抵靠所述盖构件(14,16,108,110)。
5.如权利要求2所述的流体压力缸,其特征在于,所述定位构件(26,28,104,106)安装在所述盖构件(14,16,108,110)上。
6.如权利要求2所述的流体压力缸,其特征在于,所述定位构件(26,28,104,106)形成为环形。
7.如权利要求5所述的流体压力缸,其特征在于,所述定位构件(26,28,104,106)安装在套管接头(34,48,112,114)上,所述套管接头(34,48,112,114)分别设置在一对盖构件(14,16,108,110)上。
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