[发明专利]流体压力缸在审

专利信息
申请号: 201380076366.0 申请日: 2013-11-13
公开(公告)号: CN105190054A 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 野村健二 申请(专利权)人: SMC株式会社
主分类号: F15B15/14 分类号: F15B15/14
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 梅高强;张丽颖
地址: 日本国东京都千*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 流体 压力
【权利要求书】:

1.一种流体压力缸(10,100),包括:圆筒形的缸筒(12,102),所述缸筒(12,102)内部具有缸室(20);一对盖构件(14,16,108,110),所述盖构件(14,16,108,110)安装在所述缸筒(12,102)的两个端部上;和活塞(18),所述活塞(18)沿着所述缸室(20)可位移地配置;其特征在于,

用于相对于所述盖构件(14,16,108,110)径向地和同轴地保持所述缸筒(12,102)的定位机构可拆卸地配置在所述缸筒(12,102)和所述盖构件(14,16,108,110)之间。

2.如权利要求1所述的流体压力缸,其特征在于,所述定位机构包括定位构件(26,28,104,106),所述定位构件(26,28,104,106)配置在所述缸筒(12,102)的所述两个端部上的内周侧或外周侧。

3.如权利要求2所述的流体压力缸,其特征在于,凹槽(24a,24b,120a,120b)形成在所述缸筒(12,102)的所述两个端部,所述凹槽(24a,24b,120a,120b)径向地凹陷并且所述定位构件(26,28,104,106)接合在所述凹槽(24a,24b,120a,120b)中。

4.如权利要求1所述的流体压力缸,其特征在于,各个密封构件(22a,22b,122)配置在所述缸筒(12,102)的所述两个端部上,所述密封构件(22a,22b,122)抵靠所述盖构件(14,16,108,110)。

5.如权利要求2所述的流体压力缸,其特征在于,所述定位构件(26,28,104,106)安装在所述盖构件(14,16,108,110)上。

6.如权利要求2所述的流体压力缸,其特征在于,所述定位构件(26,28,104,106)形成为环形。

7.如权利要求5所述的流体压力缸,其特征在于,所述定位构件(26,28,104,106)安装在套管接头(34,48,112,114)上,所述套管接头(34,48,112,114)分别设置在一对盖构件(14,16,108,110)上。

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