[发明专利]用于处理大面积基板的设备和方法

权利要求书

1.一种用于处理大面积基板(120)的设备(100)，包括：

-腔室布置(110)，用于以基本上竖直地布置的状态来传输所述大面积基板(120)通过所述腔室布置(110)，其特征在于，所述腔室布置(110)包括至少一个腔室、处理装置和出口端口(112)，所述处理装置用于处理竖直地布置的所述大面积基板(120)，所述出口端口(112)用于基本上竖直地布置的所述大面积基板(120)；

-传输系统，用于传输基本上竖直地布置的所述大面积基板(120)通过所述腔室布置(110)；以及

-测量布置(200)，包括至少一个光学测量装置(210)，其特征在于，所述至少一个光学测量装置(210)包括发光装置(211)和第一光检测装置(212)，所述发光装置(211)用于将漫射光发射到竖直地布置的所述大面积基板上，并且所述第一光检测装置(212)用于测量基本上竖直地布置的所述大面积基板的至少一个光学性质。

2.根据权利要求1所述的设备(100)，其特征在于，所述发光装置包括积分球(213)和光源(214)，所述光源(214)将光发射到所述积分球(213)中。

3.根据权利要求1或2所述的设备(100)，其特征在于，所述至少一个光学测量装置(210)还包括第二光检测装置(215)，所述第二光检测装置(215)用于测量基本上竖直地布置的所述大面积基板的所述至少一个光学性质。

4.根据权利要求3所述的设备(100)，其特征在于，所述第一光检测装置(212)和/或所述第二光检测装置(215)以下列距离相对于基本上竖直地布置的所述大面积基板来布置：30mm的距离且在±25mm的公差内，特别地，在±20mm的公差内，更特别地，在±15mm的公差内。

5.根据权利要求1-4中的的任一项所述的设备(100)，其特征在于，基本上竖直地布置的所述大面积基板的所述至少一个光学性质包括以下至少一项：来自基本上竖直地布置的所述大面积基板的反射率，以及通过基本上竖直地布置的所述大面积基板的透射率。

6.根据权利要求1-5中的任一项所述的设备(100)，其特征在于，所述第一光检测装置(212)配置并布置成使得没有来自所述光源(214)的直射光由所述第一光检测装置(212)检测到。

7.根据权利要求1-6中的的任一项所述的设备(100)，其特征在于，所述测量布置(200)还包括至少一个光挡(220)，所述至少一个光挡(220)配置并布置成用于捕捉透射过基本上竖直地布置的所述大面积基板的光。

8.根据权利要求3和7所述的设备(100)，其特征在于，所述第二光检测装置(215)布置在所述至少一个光挡(220)内。

9.根据权利要求7或8所述的设备(100)，其特征在于，所述至少一个光挡(220)的高度是基本上竖直地布置的所述大面积基板的高度的至少50％。

10.根据权利要求1-9中的任一项所述的设备(100)，其特征在于，所述至少一个光学测量装置(210)相对于基本上竖直地布置的所述大面积基板的传输方向基本上是可移动的。

11.如权利要求1-10中的任一项所述的设备(100)，其特征在于，在所述用于处理所述大面积基板(120)的设备(100)的所述出口端口(112)的后方提供所述测量布置。

12.根据权利要求1-11中的任一项所述的设备(100)，其特征在于，在所述腔室布置(110)内提供所述测量布置(200)，特别地，在所述腔室布置的真空腔室内提供所述测量布置(200)。

13.根据权利要求1-12中的任一项所述的设备(100)，其特征在于，所述测量布置(200)允许导致±2°的角度偏差的基板翘曲。

14.一种用于测量基本上竖直地布置的大面积基板的至少一个光学性质的方法，其特征在于，所述方法包括：

a)在传输方向上，相对于测量布置来传输(301)基本上竖直地布置的所述大面积基板；

b)以漫射光照射(302)基本上竖直地布置的所述大面积基板；以及

c)测量(303)基本上竖直地布置的所述大面积基板的所述至少一个光学性质。