[发明专利]将双单元的存储数据屏蔽而进行输出的半导体器件有效

专利信息
申请号: 201380079001.3 申请日: 2013-08-22
公开(公告)号: CN105474325B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 田边宪志 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: G11C16/04 分类号: G11C16/04;G11C16/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单元 存储 数据 屏蔽 进行 输出 半导体器件
【权利要求书】:

1.一种半导体器件,其特征在于,具有:

存储阵列,其包含多个双单元,该双单元由通过阈值电压的不同来保持二进制数据、且各自能够电重写的第1存储元件和第2存储元件构成;和

输出电路,其在接收到所述双单元的读出请求时,在构成所述双单元的第1存储元件的阈值电压比擦除判断电平小、且构成所述双单元的第2存储元件的阈值电压比所述擦除判断电平小的情况下,将所述双单元的存储数据屏蔽而进行输出。

2.如权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,

所述输出电路在接收到所述双单元的读出请求时,在构成所述双单元的第1存储元件的阈值电压比擦除判断电平小、且构成所述双单元的第2存储元件的阈值电压比所述擦除判断电平小的情况下,输出固定值。

3.如权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,

所述输出电路包含差动放大部,该差动放大部根据所述双单元的读出请求,在第1模式中将根据所述第1存储元件的阈值电压而在第1位线中产生的电压、与通过与恒流源连接而在第2位线中产生的电压之差放大,在第2模式中将根据所述第2存储元件的阈值电压而在所述第2位线中产生的电压、与通过与所述恒流源连接而在所述第1位线中产生的电压之差放大,在第3模式中将根据所述第1存储元件的阈值电压而在所述第1位线中产生的电压、与根据所述第2存储元件的阈值电压而在所述第2位线中产生的电压之差放大,所述输出电路在接收到所述双单元数据的读出请求时,依次执行所述第1模式、所述第2模式、所述第3模式的处理。

4.如权利要求3所述的半导体器件,其特征在于,

所述半导体器件包含:

与所述第1存储元件连接的第3位线;和

与所述第2存储元件连接的第4位线,

所述差动放大部包含:

放大器,其将所述第1位线与所述第2位线的电位差放大;

第1开关,其在所述第1模式中将所述第1位线和所述第3位线连接,在所述第2模式中将所述第2位线和所述第4位线连接,在所述第3模式中将所述第1位线和所述第3位线连接,且将所述第2位线和所述第4位线连接;和

第2开关,其在所述第1模式中将所述恒流源和所述第2位线连接,在所述第2模式中将所述恒流源和所述第1位线连接。

5.如权利要求4所述的半导体器件,其特征在于,

所述差动放大部包含:

在通过所述放大器放大后将所述第1位线的电压输出的第1输出驱动器;和

在通过所述放大器放大后将所述第2位线的电压输出的第2输出驱动器。

6.如权利要求5所述的半导体器件,其特征在于,

所述输出电路包含接收所述差动放大部的输出的数据输出部,

所述数据输出部包含:

第1存储部,其存储所述第1模式中的所述差动放大部的输出;

第2存储部,其存储所述第2模式中的所述差动放大部的输出;

第3存储部,其存储所述第3模式中的所述差动放大部的输出;和

输出控制电路,其在所述第1存储部中存储有表示所述第1存储元件的阈值电压比所述擦除判断电平小的数据、且在所述第2存储部中存储有表示所述第2存储元件的阈值电压比所述擦除判断电平小的数据的情况下,输出将存储在所述第3存储部中的数据屏蔽得到的数据。

7.如权利要求6所述的半导体器件,其特征在于,

所述输出电路具有选择器,该选择器在所述第1模式及所述第3模式中,将所述第1输出驱动器的输出选作第1输入值,将所述第2输出驱动器的输出选作第2输入值,

该选择器在所述第2模式中,将所述第2输出驱动器的输出选作所述第1输入值,将所述第1输出驱动器的输出选作所述第2输入值,

所述第1存储部、所述第2存储部及所述第3存储部存储基于所述第1输入值及所述第2输入值的值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380079001.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top