[发明专利]光学构件的制造方法以及光学构件、光学构件形成用透明构件、光波导及光模块在审
申请号: | 201380079259.3 | 申请日: | 2013-08-30 |
公开(公告)号: | CN105492932A | 公开(公告)日: | 2016-04-13 |
发明(设计)人: | 酒井大地;内崎雅夫;黑田敏裕 | 申请(专利权)人: | 日立化成株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/12;G02B6/136;G02B6/138;B29D11/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;金鲜英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 构件 制造 方法 以及 形成 透明 波导 模块 | ||
1.一种光学构件的制造方法,其具有工序A,即:将透明构件暴露于溶 液,使暴露于所述溶液的所述透明构件的表层部位的折射率实质上低于未暴露 于所述溶液的所述透明构件的中心部的折射率。
2.如权利要求1所述的光学构件的制造方法,所述工序A中,当将所述 透明构件暴露于溶液时,使所述溶液含浸于所述透明构件。
3.如权利要求1或2所述的光学构件的制造方法,所述溶液含有折射率 控制剂,所述折射率控制剂通过包含在所述透明构件的表层部位而发挥使所述 表层部位的折射率实质上降低的功能。
4.一种光学构件的制造方法,其具有工序A’,即:对于透明构件,使所 述透明构件的表层部位含有使所述透明构件的折射率实质上降低的折射率控 制剂,使含有所述折射率控制剂的表层部位的折射率实质上低于不含折射率控 制剂的所述透明构件的中心部的折射率。
5.如权利要求1~4中任一项所述的光学构件的制造方法,所述透明构件 为能够通过蚀刻液进行蚀刻的透明构件,所述制造方法具有通过蚀刻来进行图 案化的工序B,所述工序B与所述工序A或所述工序A’同时进行或者在所 述工序A或所述工序A’之前进行。
6.如权利要求1~5中任一项所述的光学构件的制造方法,所述透明构件 为透明树脂,所述折射率控制剂为1价的阳离子。
7.如权利要求6所述的光学构件的制造方法,所述溶液为碱溶液。
8.如权利要求6或7所述的光学构件的制造方法,所述1价的阳离子为 钾离子和钠离子中的至少任一种。
9.如权利要求6~8中任一项所述的光学构件的制造方法,所述透明树脂 为感光性透明树脂,所述制造方法具有工序C,即:在所述工序A或所述工 序A’之前、或/和在所述工序B之前,照射能够将所述感光性透明树脂光固 化的活性光线。
10.如权利要求6~9中任一项所述的光学构件的制造方法,具有在所述工 序A或所述工序A’之后将所述透明树脂热固化的工序D’。
11.一种光学构件的制造方法,具有工序D,即:将透明树脂热固化,使 所述透明树脂的表层部位附近的折射率实质上低于所述透明树脂的中心部的 折射率。
12.如权利要求10或11所述的光学构件的制造方法,所述透明树脂至少 具有:(A)具有热聚合性的官能团的基体树脂、(B)热聚合性化合物。
13.一种光学构件形成用透明构件,其用于权利要求1~12中任一项所述 的光学构件的制造方法。
14.一种光学构件,通过权利要求1~12中任一项所述的光学构件的制造 方法而得。
15.一种光波导,其是具有芯部和包覆部的光波导,在形成所述芯部的芯 图案中,具有如下的表层部位:所述芯图案的至少外周的一部分相比所述芯图 案的中心部具有低折射率。
16.如权利要求15所述的光波导,其是层叠有下部包覆层、芯图案、上 部包覆层的光波导,在具有低折射率的所述表层部位的外侧,具有折射率进一 步低的下部包覆层或/和上部包覆层。
17.如权利要求15或16所述的光波导,具有2边以上的外周的所述芯图 案为至少包含两侧壁的2边的芯图案。
18.如权利要求16或17所述的光波导,相比所述芯图案中心与芯图案外 周的低折射率部位的折射率差,所述低折射率部位与所述下部包覆层或/和上 部包覆层的折射率差更大。
19.如权利要求15~18中任一项所述的光波导,所述芯图案由权利要求 13所述的光学构件形成用透明构件形成。
20.如权利要求15~19中任一项所述的光波导,所述表层部位包含用于低 折射率化的折射率控制剂。
21.一种光模块,其使用了权利要求15~20中任一项所述的光波导。
22.一种光波导芯图案形成用透明构件,其是用于层叠有下部包覆层、芯 图案、上部包覆层的光波导中的芯图案形成用透明构件,在形成所述芯图案时, 能够实质上形成2边以上的外周与所述芯图案的中心部相比折射率低的表层 部位。
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