[发明专利]液晶显示装置的制造方法及液晶显示装置有效
申请号: | 201410010530.4 | 申请日: | 2014-01-09 |
公开(公告)号: | CN103969869B | 公开(公告)日: | 2016-11-30 |
发明(设计)人: | 中村考雄;刈込修;高谷亮平 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本显示器 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/136;G02F1/1362;G02F1/1368 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 制造 方法 | ||
1.一种液晶显示装置的制造方法,其特征在于,包括:
在基板上形成薄膜晶体管的电极的工序;
在所述薄膜晶体管的电极的上方形成具有第1孔的有机绝缘膜的工序;
在所述有机绝缘膜的上方形成无机绝缘膜的工序;
在所述第1孔的中心部之上形成具有第2孔的抗蚀膜的工序;
使用所述抗蚀膜对所述无机绝缘膜进行干法刻蚀的工序;
除去所述抗蚀膜的工序;以及
形成与所述被蚀刻后的无机绝缘膜的上表面接触的像素电极的工序,
在进行所述干法刻蚀的工序中,使氟系气体及氧气的混合干法刻蚀气体的总流量为(腔室的容积)×(0.09~0.11)/分钟,使所述混合干法刻蚀气体中的所述氧气的比例为80%以上。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于,
还包括在所述有机绝缘膜与所述无机绝缘膜之间形成对置电极的工序,
所述对置电极的上表面与所述无机绝缘膜接触,所述对置电极的下表面与所述有机绝缘膜接触,
通过在所述对置电极与所述像素电极之间产生的电场来控制液晶的偏振。
3.如权利要求1或2所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于,
所述薄膜晶体管的电极是与该薄膜晶体管所包含的半导体膜的上表面电连接的金属。
4.一种液晶显示装置,其特征在于,包括:
薄膜晶体管,其包含半导体膜、和位于所述半导体膜的上层且与所述半导体膜电连接的电极膜;
有机绝缘膜,其位于所述电极膜的上层,且形成有在俯视观察下与该电极膜重叠的第1孔;
第2无机绝缘膜,其形成于所述有机绝缘膜的上方,具有在俯视观察下位于所述第1孔的内侧的第2孔,且在第2孔处具有锥形形状;
像素电极,其位于所述第2无机绝缘膜的上方,且经由所述第1孔及第2孔与所述电极膜连接;以及
对置电极,其形成于所述有机绝缘膜与所述第2无机绝缘膜之间,通过在该对置电极与所述像素电极之间产生的电场来控制液晶的偏振。
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