[发明专利]铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物

权利要求书

1.一种铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，对于组合物的总重量，包含：5至40%重量的过氧化氢，0.1至5%重量的蚀刻抑制剂，0.1至5%重量的螯合剂，0.1至5%重量的蚀刻添加剂，0.01至2%重量的氟化物，0.01至2%重量的蚀刻稳定剂及余量的水且使全部组合物的总重量为100%重量；所述蚀刻稳定剂是同时具有醇基和胺基的化合物。

2.根据权利要求1所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述同时具有醇基和胺基的化合物是碳原子数1至10的烷醇胺。

3.根据权利要求1所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述同时具有醇基和胺基的化合物选自由甲醇胺、乙醇胺、丙醇胺、丁醇胺、二乙醇胺、三乙胺、二甲基乙醇胺、N-甲基乙醇胺及其混合构成的群。

4.根据权利要求1所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻添加剂为有机酸、无机酸或其盐，同时含有氮和硫的化合物或其混合物。

5.根据权利要求1所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻抑制剂是含有选自氧、硫及氮中至少一个以上的杂原子的1至10元杂环碳氢化合物。

6.根据权利要求1所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述螯合剂是同时具备氨基和羧酸基的化合物。

7.根据权利要求1所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于,所述氟化物是离解出F^-或HF₂^-离子的化合物。

8.根据权利要求1所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于,还包括玻璃蚀刻抑制剂。

9.根据权利要求8所述的铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物，其特征在于,所述玻璃蚀刻抑制剂是含有硼的化合物。