[发明专利]一种光刻胶回收系统

说明书

技术领域

本发明涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种光刻胶回收系统。

背景技术

在制作彩膜基板和阵列基板的光刻工艺中，主要是利用光刻胶加上稀释剂从而将光刻胶稀释成一定浓度后，再以旋转涂布方式（Spin coat）或狭缝涂布方式（Slit coat），将稀释后的光刻胶均匀涂布于基板上。而为了使光刻胶可以均匀地涂布于基板上，旋转涂布方式通常会先在该基板上涂布大量光刻胶，然后旋转基板使光刻胶能够均匀披覆于整个基板上，然而此种涂布方式中光刻胶的利用率较低，大多数的光刻胶都在旋转涂布的过程中，被排入废液槽中；而狭缝涂布方式中，是将工作台上涂布完成的基板取走，再放置新的基板进行涂布，而为了保证涂布的均匀，在等待下一基板到位的时间内，要保持喷嘴出胶的连续性，即等待时间内喷嘴也一直在出胶，该时间段的出胶也被排入废液槽中。由此可见，光刻胶的浪费比较严重，而且大量排出的光刻胶会对环境造成污染，尤其对于大规模生产线而言，光刻胶被大量的浪费，增加了生产成本。

发明内容

本发明的目的是提供一种光刻胶回收系统，用于解决由于目前彩膜基板和阵列基板生产工艺中涂布光刻胶时的大量浪费的问题，从而降低生产成本。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的：

本发明实施例提供一种光刻胶回收系统，包括：

接收装置，所述接收装置与光刻胶涂布装置连接，用于接收所述光刻胶涂布装置排出的使用过的光刻胶；

第一缓冲装置，所述第一缓冲装置的顶部与所述接收装置的底部连接；用于容纳所述接收装置接收的所述使用过的光刻胶；

输送装置，通过设置有第一控制阀的管道与所述第一缓冲装置的底部连接，以及与第二缓冲装置连接；所述输送装置用于将所述第一缓冲装置中的所述使用过的光刻胶输送至所述第二缓冲装置中；

所述第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；所述第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；所述第二缓冲装置用于容纳所述输送装置输送的所述使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。

本发明实施例中，通过缓冲装置和输送装置，使回收的光刻胶具有较充分的缓冲时间并能够具有足够的动力进入胶桶，从而实现使用过的光刻胶的回收，减小光刻胶的浪费，降低生产成本。

优选的，所述第二缓冲装置的顶部还通过设置有第三控制阀的管道与废液桶连接，所述控制装置控制所述第三控制阀的通断，所述设置有第三控制阀的管道用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出气体以减少所述第二缓冲装置内的压力，或者用于在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出清洗所述第二缓冲装置的液体。本发明实施例中，所述设置有第三控制阀的管道在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出气体以减少所述第二缓冲装置内的压力，因此不会影响所述输送装置的输送动作；在清洗该系统时，通过输送装置输送清洗液，所述设置有第三控制阀的管道在所述第三控制阀导通的状态下向废液桶排出清洗所述第二缓冲装置的液体。

优选的，所述系统还包括控制装置、以及分别与所述控制装置连接的第一监测装置和第二监测装置；

所述第一监测装置与所述第一控制阀连接，用于监测所述第一缓冲装置中光刻胶的液位，并向控制装置发送第一液位信号；

所述第二监测装置与所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接，用于监测所述第二缓冲装置中光刻胶的液位，并向控制装置发送第二液位信号；

所述控制装置与所述第一控制阀、所述第二控制阀、所述第三控制阀、所述第四控制阀连接和所述输送装置连接，用于根据接收的所述第一液位信号控制所述第一控制阀的通断和控制所述输送装置的开启和停止；还用于根据接收的所述第二液位信号控制所述第二控制阀、所述第三控制阀或所述第四控制阀的通断，及控制所述输送装置的停止。

本发明实施例中，通过所述控制装置、所述第一监测装置和所述第二监测装置，对缓冲装置中所述使用过的光刻胶的液位的监测，并对各控制阀输送装置进行控制，实现非人工的所述使用过的光刻胶收集。

优选的，还包括第一过滤装置，所述第一过滤装置设置于所述接收装置的底部，用于过滤所述接收装置排出的所述使用过的光刻胶。所述第一过滤装置为过滤网，所述过滤网设置有若干直径小于1毫米的过滤孔。通过所述第一过滤装置对收集到的所述使用过的光刻胶进行初步过滤，以减少后续收集流程中收集的所述使用过的光刻胶中的颗粒。